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電鍍生產(chǎn)線周邊輔助設(shè)備
電鍍生產(chǎn)線周邊輔助設(shè)備:
電鍍電源是電鍍生產(chǎn)過程中重要的輔助設(shè)備。國內(nèi)大量應(yīng)用的還是硅整流器和可控硅整流器,分為調(diào)壓器調(diào)壓、磁飽和電抗器調(diào)壓及可控硅凋壓。
電鍍用硅整流器和可控硅整流器都是低壓大電流,一般為12V(鍍鉻選用18V),電流從100A至20000A都有可控硅調(diào)壓的硅整流器,只有在負(fù)荷較高時渡形良好穩(wěn)流穩(wěn)壓、穩(wěn)定電流密度的電鍍電源也正在推廣應(yīng)用。
解決粉末冶金零件電鍍問題
粉末冶金零件的電鍍問題長期以來就是業(yè)內(nèi)難題,現(xiàn)在化學(xué)鍍鎳能夠成功解決粉末冶金零件電鍍問題。大部分粉末冶金零件都會存在孔隙,所以在進(jìn)行電鍍的時候比較困難,而且因?yàn)榉勰┮苯鹆慵目紫叮?dāng)粉末冶金零件腐蝕的時候往往從內(nèi)部開始并向表面擴(kuò)展,達(dá)不到預(yù)期的效果,所以所采用化學(xué)鍍鎳解決粉末冶金零件電鍍問題。但是由于粉末冶金零件鍍前先填堵孔隙,這不僅會讓電鍍工藝更加復(fù)雜化,還會使粉末冶金零件的電鍍成本大幅度提高。鍍液中pH 緩沖劑過少
鍍液中的pH 緩沖劑不僅對鍍液本身pH 有緩沖作用,更重要的是對陰極界面液層pH 的緩沖作用。當(dāng)其含量低時,高陰極電流密度區(qū)因其本底濃度低,同樣因鍍液中濃度低,緩沖劑向陰極界面液層擴(kuò)散的速度下降,其對陰極界面液層中pH 的緩沖作用差,H 稍一放電,界面液層中pH 上升更快,鍍層更易燒焦。鍍鎳、氯化甲鍍鋅液中的緩沖劑──硼酸,還具有細(xì)化鍍層結(jié)晶、提高鍍層光亮性等作用,所以非但不能缺,而且應(yīng)根據(jù)不同液溫條件,盡量多加至不結(jié)晶析出為宜。不少人很不注重氯化甲鍍鋅液中硼酸的及時補(bǔ)加,所以電鍍質(zhì)量上不了檔次。