X射線測(cè)厚儀結(jié)構(gòu)

一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

（一）、外部結(jié)構(gòu)原理圖

X熒光做鍍層分析時(shí)，根據(jù)射線是至上而下照射樣品，還是至下而上照射樣品的方式，將X熒光分析儀的外部整體結(jié)構(gòu)分為：上照射和下照射兩種結(jié)構(gòu)。

（二）、各種外部結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)

1、上照射方式

   用于照射(激發(fā))的X射線是采用由上往下照射方式的設(shè)備稱為上照射儀器。此類設(shè)備的Z軸為可移動(dòng)方式，用于確定射線照射光斑的焦點(diǎn)，確保測(cè)量的準(zhǔn)確性。

①、Z軸的移動(dòng)方式

   根據(jù)Z軸的移動(dòng)方式，分為自動(dòng)和手動(dòng)兩類；

自動(dòng)型的設(shè)備完全由程序與自動(dòng)控制裝置實(shí)現(xiàn)，其光斑對(duì)焦的重現(xiàn)性與準(zhǔn)確度都很高，而且使用非常簡(jiǎn)便（一般是與圖像采集系統(tǒng)與控制系統(tǒng)相結(jié)合的方式），一般只需要用鼠標(biāo)在圖像上點(diǎn)擊一下即可定位。涂鍍層測(cè)厚儀具有測(cè)量誤差小、可靠性高、穩(wěn)定性好、操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn)，是控制和保證產(chǎn)品質(zhì)量必不可少的檢測(cè)儀器，廣泛地應(yīng)用在制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測(cè)領(lǐng)域。此類設(shè)備對(duì)于測(cè)試形狀各異的樣品非常方便，也是目前主流的分析設(shè)備類型。

   手動(dòng)型設(shè)備，一般需要用人觀察圖像的方式，根據(jù)參考斑點(diǎn)的位置，手動(dòng)上下調(diào)節(jié)Z軸方向，以達(dá)到準(zhǔn)確對(duì)焦的目的。因此，往往在測(cè)試對(duì)象幾何結(jié)構(gòu)基本上沒有變化的情況下使用比較快捷。

②、X、Y軸水平移動(dòng)方式

水平移動(dòng)方式一般分為：無X、Y軸移動(dòng)裝置；手動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置；電動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置；全程控自動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置。

這幾類的設(shè)備都是根據(jù)客戶實(shí)際需要而設(shè)計(jì)的，例如：使用無X、Y軸移動(dòng)裝置的也很多，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，樣品水平移動(dòng)完全靠手動(dòng)移動(dòng)，這種設(shè)備適合于樣品面積較大，定位比較容易的測(cè)試對(duì)象。  

一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

能量色散X熒光光譜儀定義及原理

X射線熒光光譜儀是一種可以對(duì)多元素進(jìn)行快速同時(shí)測(cè)定的儀器。雙鍍層：Au/Ni/Cu，Cr/Ni/Cu，Au/Ag/Ni，Sn/Cu/Brass，等等。試樣受X射線照射后，其中各元素原子的內(nèi)殼層（K，L或M層）電子被激發(fā)逐出原子而引起電子躍遷，并發(fā)射出該元素的特征X射線熒光。每一種元素都有其特定波長(zhǎng)的特征X射線。能散型X射線熒光光譜儀（EDXRF）利用熒光X射線具有不同能量的特點(diǎn)，由探測(cè)器本身的能量分辨本領(lǐng)來分辨探測(cè)到的X射線。

江蘇一六儀器  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

      電鍍液測(cè)量杯整套含兩個(gè)測(cè)量杯，可用于多品牌X-RAY測(cè)厚儀上使用，高純?cè)乇镜滋岣邷y(cè)量精度和檢出限。電鍍液測(cè)試樣品杯，嚴(yán)格控制了容量和溢出物的處理，用來測(cè)試溶液中金屬離子的濃度；使用方便簡(jiǎn)捷，無污染。

測(cè)試膜，又名X射線熒光光譜儀樣品薄膜，邁拉膜，麥拉膜，XRF測(cè)試薄膜，XRF樣品膜，樣品薄膜，EDX薄膜，EDX樣品薄膜，ROHS檢測(cè)膜，光譜儀樣品薄膜；是應(yīng)用于X熒光光譜儀的用于保留液體、粉末、泥漿或固體樣本在樣本杯內(nèi)的物質(zhì)。無損變焦檢測(cè):可對(duì)各種異形凹槽進(jìn)行無損檢測(cè)，凹槽深度范圍0-90mm。專用樣品薄膜是使用方便簡(jiǎn)捷，無污染的測(cè)試用樣品薄膜，廣泛應(yīng)用于Elite、fischer、牛津、博曼、先鋒、日立、天瑞等各種品牌的EDX/XRF光譜儀。

江蘇一六儀器    X射線熒光光譜測(cè)厚儀

產(chǎn)品配置

X光金屬鍍層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)配置為：X射線管，正比計(jì)數(shù)器﹨半導(dǎo)體探測(cè)器，高清攝像頭，高度激光，信號(hào)檢測(cè)電子電路。

性能指標(biāo)

X射線激發(fā)系統(tǒng) 垂直上照式X射線光學(xué)系統(tǒng)

空冷式微聚焦型X射線管，Be窗

標(biāo)準(zhǔn)靶材：Rh靶；任選靶材：W、Mo、Ag等

X射線管：管電壓50KV，管電流1mA

可測(cè)元素：CI～U

檢測(cè)器：正比計(jì)數(shù)管

樣品觀察：CCD攝像頭

測(cè)定軟件：薄膜FP法、檢量線法

Z軸程控移動(dòng)高度 20mm