基于氮化鈦優(yōu)良的導(dǎo)電性能，可做成各種電極以及點(diǎn)觸頭等材料。

（9）氮化鈦的超導(dǎo)臨界溫度較高，可作為優(yōu)良的超導(dǎo)材料。

（10）氮化鈦的熔點(diǎn)高于大多數(shù)過(guò)渡金屬氮化物，密度低于大多數(shù)金屬氮化物，從而成為一種獨(dú)特的耐火材料。

氮化鈦可以作為一種膜鍍?cè)诓Ａ?，在紅外線反射率大于75%的情況下，當(dāng)?shù)伇∧ず穸却笥?0nm時(shí)，能有效提高玻璃的保溫性能。另外，調(diào)整氮化鈦中氮元素的百分含量，可以改變氮化鈦薄膜的顏色，從而達(dá)到理想的美觀效果。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

PVD涂層（離子涂層）技術(shù)的主要特征和優(yōu)點(diǎn)與真空蒸發(fā)涂層和真空濺射涂層相比，PVD離子涂層具有以下優(yōu)點(diǎn)：1.薄膜層與工件表面具有很強(qiáng)的結(jié)合力，更耐用，更耐磨。2.成膜速度快，生產(chǎn)效率gao。3.各種各樣的可涂層。PVD技術(shù)的發(fā)展PVD技術(shù)出現(xiàn)于20世紀(jì)70年代后期，制備的薄膜具有硬度高，摩擦因數(shù)低，耐磨性好和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速鋼切削刀具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了全球制造業(yè)的極大關(guān)注。在開發(fā)高xing能和高可靠性的涂層設(shè)備時(shí)，他們還在硬質(zhì)合金和陶瓷切削刀具中進(jìn)行了更深入的涂層應(yīng)用研究。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

測(cè)試方法：連續(xù)對(duì)鍍膜室抽氣24h這一時(shí)間段之間，測(cè)定出過(guò)程中的壓力zui低值，則定為該設(shè)備的極限壓力。如果壓力變化值在0.5h內(nèi)沒(méi)有超過(guò)5％的波動(dòng)，則取zui高測(cè)量表讀數(shù)值作為極限壓力值。二、鍍膜室抽氣時(shí)間的測(cè)定1、試驗(yàn)條件：與上述極限壓力測(cè)定的試驗(yàn)條件的（1）~（4）相同。2、測(cè)試方法：在連續(xù)抽氣的前提之下，待至鍍膜室內(nèi)達(dá)到極限壓力，再將鍍膜室打開15min，然后將鍍膜室關(guān)閉，再次將鍍膜室抽氣至規(guī)定的壓力標(biāo)準(zhǔn)，此間這段所需的時(shí)間，就是該設(shè)備的抽氣時(shí)間。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需要增透膜則大量用于照相和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用于照相機(jī)和電視攝象機(jī)的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導(dǎo)體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件(CCD)也都甬道各種薄膜在顯示器件方面，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導(dǎo)電膜、攝像管光導(dǎo)膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制