蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物

質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。

膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。

鍍膜制造需要部分耗材

　　1.SIO2顆?；颦h(huán)狀(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根據(jù)機臺配置選用

　　2.TIO2顆粒

　　3.晶振片F(xiàn)iltex 6MHZ或INFICON6MHZ

　　4.監(jiān)控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根據(jù)機臺配置選用

　　5.銅坩堝,需要根據(jù)機臺配置選用

　　6.鋁箔厚度0.05mm*寬610mm

　　7.電子槍燈絲,需要根據(jù)機臺配置選用

　　8.離子源,需要根據(jù)機臺配置選用耗材

　　三,設(shè)備日常維修保養(yǎng)部件需要根據(jù)機臺型號選用

　　四,光學鍍膜機臺品牌分玻璃機和塑膠機配置不一樣,尺寸可以選擇,900mm,1100mm,1300mm,1350mm,

我們采用的是純度在99.99%以上左右的錫或銦及銦錫合金。厚度在30納米以下的錫，連續(xù)性相當?shù)牟睿苋〉勉y白色金屬光澤并具有較大的電阻。相對于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：真空蒸鍍其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。銦也是一樣，但銦的銀白色反光率更勝于錫的外觀，因為價格較高，我們采用銦錫合金，這樣既能得到不導(dǎo)電膜又能得到更白更亮的反光金屬效果！鍍銦錫不導(dǎo)電膜都是半透明的，所以我們要求被鍍基材為透明或黑色為佳。因為鍍銦錫都是在250度就開始溶化，所以蒸發(fā)的溫度也相對較低，這樣加熱熔化及蒸發(fā)的電流和時間相對也較低。