鍍膜產(chǎn)品介紹

磁性元件/小金屬元件

1、鐵氧體磁芯

2、釹鐵硼

3、小金屬零部件（小彈片、小彈簧、小鋼片）

作用：絕緣、防銹、卷線保護

Parylene超薄透明的涂覆為磁體和鐵氧磁芯提供優(yōu)良的介電特性。與工業(yè)標準涂層相比，它的介電常數(shù)和損耗因子較低，而介電強度較高。粘結釹鐵硼元件非常脆弱，Parylene涂層的另一個優(yōu)點是提高強度。各種金屬、磁性、釹鐵硼材料容易受大氣濕度腐蝕，而Parylene的透水性極低，能夠保護元件免受腐蝕。

無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸發(fā)源的恰當選擇可以使這些影響較小。

Parylene是美國Union Carbide Co.公司在六十年代推出的一種氣相沉積高分子聚合物材料，由獨特的真空氣相沉積工藝制備，能涂敷到各種形狀的表面，號稱“無孔不入”，被業(yè)內稱為好的防潮、防霉、防腐、防鹽霧的特殊防護涂層。Parylene可分為N型、C型、D型、F型、HT型等多種類型

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應用小規(guī)格設備進行光學鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉變成為純技術問題。

真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設備，其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設備、磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。

隨著科技和經(jīng)濟的提升，各種類型各種鍍膜工藝的真空鍍膜設備在不斷的增加，其功能也越來越完善。

真空鍍膜設備普遍應用于工業(yè)生產(chǎn)，在與待鍍工件形成薄膜的過程中，可以地測量和控制蒸發(fā)或濺射成膜材料的膜厚，從而保證膜厚的均勻性。磁控鍍膜機的真空鍍膜技術的特點主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積和化學氣相沉積。