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以上原料中除種外,第2,3,4種均含輕稀土(w(REO)≈98%),且以CeO2為主,w(CeO2)為48%~50%.我國(guó)具有豐富的資源,據(jù)測(cè)算,其工業(yè)儲(chǔ)量約為1800萬(wàn)噸(以CeO2計(jì)),這為今后我國(guó)持續(xù)發(fā)展稀土拋光粉奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ),也是我國(guó)獨(dú)有的一大優(yōu)勢(shì),并可促進(jìn)我國(guó)稀土工業(yè)繼續(xù)高速發(fā)展。
1.4主要生產(chǎn)工藝及設(shè)備
1.4.1高系稀土拋光粉的生產(chǎn)
以稀土混合物分離后的氧化為原料,以物理化學(xué)方法加工成硬度大,粒度均勻、細(xì)小,呈面心立方晶體的粉末產(chǎn)品。其主要工藝過(guò)程為:原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級(jí)→過(guò)濾→烘干→系稀土拋光粉產(chǎn)品。
中系稀土拋光粉,主要適用于光學(xué)儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速拋光。該拋光粉與高粉比較,可使拋光粉的液體濃度降低11%,拋光速率提高35%,制品的光潔度可提高一級(jí),拋光粉的使用壽命可提高30%.目前國(guó)內(nèi)使用這種拋光粉的用量尚少,有待于今后繼續(xù)開發(fā)新用途。
低系稀土拋光粉,如771型適用于光學(xué)眼鏡片及金屬制品的高速拋光;797型和C-1型適用于電視機(jī)顯象管、眼鏡片和平板玻璃等的拋光;H-500型和877型適用于電視機(jī)顯象管的拋光。此外,其它拋光粉用于對(duì)光學(xué)儀器,攝像機(jī)和照像機(jī)鏡頭等的拋光,這類拋光粉國(guó)內(nèi)用量,約占國(guó)內(nèi)總用量85%以上。