（1）成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學(xué)鍍膜溫度更高達(dá)1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì)，而真空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。（2）蒸發(fā)源選擇自由度大?？蛇x擇的鍍膜材料多而不受材料熔點(diǎn)限制，可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。（3）不使用有害氣體、液體，對(duì)環(huán)境無不利影響。在當(dāng)前越來越重視環(huán)保的大趨勢(shì)下，這點(diǎn)極其可貴。

而它的電子的來源有二：高溫金屬產(chǎn)生的熱電子，另一種電子的來源為中空陰極放電。(4)雷射加熱：激光束可經(jīng)由光學(xué)聚焦在蒸鍍?cè)瓷?，產(chǎn)生局部瞬間高溫使其逃離。zui早使用的是脈沖紅寶雷射，而后發(fā)展出紫外線準(zhǔn)分子雷射。紫外線的優(yōu)點(diǎn)是每一光子的能量遠(yuǎn)比紅外線高，因此準(zhǔn)分子雷射的功率密度甚高，用以加熱蒸鍍的功能和電子束類似。常被用來披覆成份復(fù)雜的化合物，鍍膜的品質(zhì)甚佳.它和電子束加熱或?yàn)R射的過程有基本上的差異，準(zhǔn)分子雷射脫離的是微細(xì)的顆粒，后者則是以分子形式脫離。(5)電弧加熱：陰極電弧沉積的優(yōu)點(diǎn)為：①蒸鍍速率快，可達(dá)每秒1.0微米；②基板不須加熱；③可鍍高溫金屬及陶瓷化合物；④鍍膜密高且附著力佳。

采用PVD涂鍍技術(shù)可以生產(chǎn)極薄的涂層且可以擴(kuò)張到其他合金體系,因此具有更廣闊的應(yīng)用價(jià)值。涂層厚度減半甚至到原來的1/3,對(duì)涂鍍板的焊接性能和成型性能會(huì)有很大的提高。更為重要的是，與傳統(tǒng)技術(shù)相比，PVD涂鍍技術(shù)不需要進(jìn)行yan塵和排放物的控制，因此，具有環(huán)保優(yōu)勢(shì)。采用新的PVD涂鍍技術(shù)，首先必須解決的問題是，實(shí)現(xiàn)涂鍍工程的工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn)，達(dá)到連續(xù)化和高速化涂鍍的要求。PVD（PhysicalVaporDepsition）鍍膜，是指利用物理手段實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子級(jí)新材料轉(zhuǎn)移到基材表面的過程。