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如何對無塵潔凈廠房的照明進行設計？

??1 照度及照度均勻度

??根據(jù)視覺功能的研究可知，對比敏感度的變化時的照度函數(shù)，在達到某一對比敏感度值以前，增加照度對于進步對比敏感度是很有效的。產(chǎn)業(yè)潔凈廠房為密閉車間，內(nèi)部多為無窗室(區(qū))，國際照明(CIE)《室內(nèi)照明指南》規(guī)定，無窗廠房的照度不能小于500lx。根據(jù)我國現(xiàn)有的電力水平，應以滿足對照明的基本要求為依據(jù)，照度為150lx時基本上能滿足工人生理、心理上的要求。為進步生產(chǎn)效率，我國GMP(1998)4條規(guī)定“主要工作室的照度宣為300lx；潔凈室空氣的主要污染源不是人，而是新型建筑裝飾材料、清潔劑、粘接劑、現(xiàn)代辦公用品等。對照度有特殊要求的生產(chǎn)部位可設置局部照明”。至于輔助工作室、走廊、氣閘室、職員凈化和物料凈化室，考慮到與生產(chǎn)車間的明暗適應題目，規(guī)定其照度不宜低于150lx。

??照度均勻度指規(guī)定表面上的照度與均勻照度之比，照度比合適時可以減少疲憊，集中留意力，使得環(huán)顧室內(nèi)也不會有陰暗的感覺。潔凈室(區(qū))主要工作室，照明的照度均勻度規(guī)定不應小于0.7，此值在工程設計中一般都能滿足。

??2 光源的選擇

??產(chǎn)業(yè)潔凈廠房自然透風少，一般都在凈化區(qū)內(nèi)的房間及走廊等場所設置送排風口，通過凈化空調(diào)進行機械送排風。風口數(shù)目及安裝位置的增加限制了燈具的數(shù)目和燈具的安裝位置，這就要求在同樣照度條件下一定程度地減少燈具數(shù)目，宜用的光源作為凈化區(qū)(室)的光源。熒光燈的發(fā)光效率一般是白熾燈的幾倍，且光源為冷光源，不易發(fā)熱，這樣既滿足對燈具的要求，又可以減少空調(diào)的能耗，符合節(jié)能要求。7、技術(shù)進程中和空調(diào)體系的熱收回是可以直接獲益的辦法，因而應充分利用這有些熱量，使之到達物盡其用的意圖。

??產(chǎn)業(yè)自然采光少，在工作時間中，燈具一般需要長時間處于工作狀態(tài)，這就需要工作中的光源更接近自然光源。熒光燈的光源光譜分布接近于自然光，能滿足對光源的要求。目前對照度要求較高的潔凈室(區(qū))，國內(nèi)外一般都采用熒光燈作為光源。

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在凈化工程中，進行空氣凈化有哪些處理方案？

??凈化工程中各級空氣潔凈度的空氣凈化處理，均應采用初效、中效、空氣過濾器三級過濾。100000級空氣凈化處理，可采用亞空氣過濾器代空氣過濾器。

??空氣過濾器的選用布置和安裝方式，應符合：初效空氣過濾器不應選用浸油式過濾器；中效空氣過濾器宜集中設置在凈化空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)的正壓段；空氣過濾器或亞空氣過濾器宜設置在凈化空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)末端，空氣過濾的安裝方式應簡便可靠，宜檢漏和更換；中效、亞、空氣過濾器宜按額定風量選用；例如，在微電子行業(yè)的芯片生產(chǎn)過程中，對微粒的控制達到分子級，否則生產(chǎn)就無法進行，或者生產(chǎn)出次品。阻力、效率相近的空氣過濾器宜設置在同一凈化車間內(nèi)。

??確定集中或分散式凈化空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)時，應綜合考慮生產(chǎn)工藝的特點和凈化車間空氣的潔凈度等級、面積、位置等因素。凡生產(chǎn)工藝連續(xù)、無塵室或凈化車間面積較大時，位置集中以及噪聲控制和振動控制要求嚴格的潔凈室，宜采用集中式凈化空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)。

??凈化空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)如需電加熱時，應選用管狀電加熱器，位置應布置在空氣過濾器的上風側(cè)，并應有防火安全措施。

??送風機可按凈化空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)的總送風量和總阻力值進行選擇，中效、空氣過濾器的阻力宜按其初阻力的兩倍計算。

??凈化工程中凈化空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)除直流式系統(tǒng)和設置值班風機的系統(tǒng)外，應采取防止室外污染空氣通過新風口參入凈化車間內(nèi)的防灌倒措施。

??凈化空氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)設計應合理利用回風，凡工藝過程產(chǎn)生大量有害物質(zhì)且局部處理不能滿足衛(wèi)生要求，或?qū)ζ渌ば蛴形：r，則不應用回風。

怎樣對無塵潔凈室中的溫濕度進行控制？

??潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。隨著GMP認證制度的推行及中國產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)的升級，為潔凈室技術(shù)提供二次發(fā)展機遇。對于硅片生產(chǎn)較佳濕度范圍為35—45%。