眾所周知，鍍鈦是在高溫，真空鈦金爐內，鈦、鋯金屬。圓柱形磁控濺射陰極也逐步運用到生產當中(圖b),兩者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經電場加速而沉積帶負電荷的不銹鋼板上，從而形成色澤豐富艷麗的金屬膜。這么做不僅僅是為了增加產品的美觀程度，也可以很大程度上提升其使用壽命，所以在實際中得到了廣泛應用，成為當今公認的、能加工硬脆非金屬材料的工具。

感應加熱式蒸發(fā)鍍膜

利用高頻電磁場感應加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結成膜的技術。

優(yōu)點蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右  蒸發(fā)源的溫度穩(wěn)定，不易產生飛濺現(xiàn)象坩堝溫度較低，坩堝材料對膜導污染較少缺點蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價高、設備復雜

在真空中，高能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而逸出表面，到達襯底凝結成膜的技術。

與真發(fā)鍍膜相比，濺射鍍膜適用于所有（包括高熔點）材料，具有附著力強、成分可控、易于規(guī)模化生產等優(yōu)點。

但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜，因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。

帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡單作用過程。

PVD技術四個工藝步驟

(1)清洗工件：接通直流電源，氣進行輝光放電為離子，離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

(2)鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

其缺點是：

1）工藝比傳統(tǒng)單色PVD的更為復雜，流程更為繁雜，生產難度高；

2）生產良率低，大約為65～70%（傳統(tǒng)單色PVD的生產良率一般為85～90%；

3）價格會比傳統(tǒng)單色PVD的高50～60%；

4）因工藝和流程的影響，雙色PVD生產限制較多，受產品結構的影響較大，而傳統(tǒng)單色PVD則幾乎不受限制

現(xiàn)代涂層設備(均勻加熱技術、溫度測量技術、非平衡磁控濺 射技術、輔助陽極技術、中頻電源、脈沖技術) 現(xiàn)代涂層設備主要由真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機械傳動部分、加熱及測溫部件、離子蒸發(fā)或濺射源、水冷系統(tǒng)等部分組成。氮化鉻涂層（CrN）CrN涂層具有良好的抗粘結性，抗腐蝕性，耐磨性。