什么是蝕刻標牌？

蝕刻標牌是指金屬標牌的圖片與金屬表面不在同一個表面，并以蝕刻的方式而制成。它可以是保留圖文，將圖文以外的區(qū)域蝕刻成下凹，稱為陽文蝕刻，或反蝕刻；也可以保留原材料的表面，使圖文區(qū)域蝕刻成下凹，稱為陰文蝕刻。

蝕刻標牌有圖文的性，常用于機械設備標牌和一些使用環(huán)境惡劣而需要作耐久性標識的場合。

蝕刻標牌是傳統(tǒng)性的標牌。一直業(yè)內(nèi)大家都習慣稱它為腐蝕標牌。有人說叫它腐蝕標牌不是很妥切，因為腐蝕一詞多指金屬在自然條件下所遭受的破壞行為的一種結果；近年來不銹鋼在標牌、銘牌行業(yè)得到廣泛應用，隨著彩色不銹鋼的出現(xiàn)，更令到標牌、銘牌表面的色彩方面變化多樣。而蝕刻則是一種有意識、有選擇性的，為達到預期目的而實施的一種刻意行為。但不管怎樣，這種工藝過程，卻經(jīng)歷了二十多年的發(fā)展，直到目前為止，還不能完全取消這種傳統(tǒng)工藝。

標牌蝕刻機有哪些?

一化學蝕刻機

1、如今市場上所見到的自動型化學蝕刻機是通過高壓噴淋及被蝕刻板直線運動形成連續(xù)不間斷進料狀態(tài)進行對工件腐蝕以提高生產(chǎn)效率;

2、加大了噴淋與被蝕刻金屬板的有效面積和蝕刻均勻程度，無論在蝕刻效果、速度和改善操作者的環(huán)境及方便程度，都優(yōu)于潑濺式蝕刻;

3、經(jīng)反復實驗噴射壓力在1-2Kg/cm2的情況下被蝕刻工件上所殘留的蝕刻圬漬能被有效清處掉，使蝕刻速度在傳統(tǒng)蝕刻法上大大提高，由于該蝕刻機液體可循環(huán)再生使用，此項可大大降低蝕刻成本，也可達到環(huán)保加工要求。

二電解蝕刻機

電蝕刻是利用金屬在以自來水或鹽水為蝕刻主體的液體中發(fā)生陽極溶解的原理，(電解的作用下)將金屬進行蝕刻，接通蝕刻電源，從而達到蝕刻的目的。市售的電解蝕刻機都是手動噴淋式的，并且都是以鹽水為蝕刻溶液，功率有大小二種。

優(yōu)點：無污染，但只有蝕刻一個步驟無污染是不行的，其他工序也必須無污染，適合實驗生產(chǎn)、凹字小面積蝕刻。主要用做研究實驗機，或者簡單的在金屬上蝕刻標記，也稱為電打標。

缺點：蝕刻面不均勻，大面積腐蝕速度慢，不能用于量產(chǎn)，也不能做凸字大面積蝕刻，不能用做標牌的大批量生產(chǎn)加工。由于電解蝕刻是在金屬導電的情況下形成蝕刻的，那么我們的產(chǎn)品在蝕刻下去有任何的深度時側面也將被蝕刻的，這樣很多精細圖案，精細文字將被蝕刻”爛“掉。蝕刻工藝對設備狀態(tài)的依賴性極大,故必需時刻使設備保持在良好的狀態(tài)。

在印制電路工業(yè)的傳統(tǒng)知識里﹐特別是印制電路原料的供貨商們皆認同﹐并得經(jīng)驗證 實﹐氨性蝕刻液中的一價銅離子含量越低﹐反應速度就越快。 事實上﹐許多的氨性蝕刻液 產(chǎn)品都含有價銅離子的特殊配位基（一些復雜的溶劑）﹐其作用是降低一價銅離子（產(chǎn)品具 有高反應能力的技術秘訣）﹐可見一價銅離子的影響是不小的。 將一價銅由 5000ppm 降至 50ppm, 蝕刻速率即提高一倍以上。但是如果空氣太多﹐又會加速溶液中的氨的損失而使PH值下降﹐使蝕刻速率降低。 由于在蝕刻反應的過程中會生成大量的一價銅離子, 而一價銅離子又總是與氨的絡合 基緊緊的結合在一起﹐所以要保持其含量近于零是十分困難的。

此方法所使用的溶液為二價銅, 不是氨-銅蝕刻, 它將有可能被用在印制電路工業(yè)中。 在 PCH 工業(yè)中, 蝕刻銅箔的典型厚度為 5 到 10 密耳(mils), 有些情況 下厚度卻相當大。它對蝕刻參數(shù)的要求經(jīng)常比 PCB 工業(yè)更為苛刻。 有一項來自 PCM 工業(yè)系統(tǒng)但尚未正式發(fā)表的研究成果﹐相信其結果將會令人耳目一新。2、加大了噴淋與被蝕刻金屬板的有效面積和蝕刻均勻程度，無論在蝕刻效果、速度和改善操作者的環(huán)境及方便程度，都優(yōu)于潑濺式蝕刻。 由于有雄厚的項目支持﹐因此研究人員有能力從長遠意議上對蝕刻裝置的設計思想進 行改變﹐同時研究這些改變所產(chǎn)生的效果。 比如說﹐與錐形噴嘴相比﹐采用扇形噴嘴的設 計效果更佳﹐而且噴淋集流腔 （即噴嘴擰進去的那一段管） 也有一個安裝角度﹐對進入蝕刻 艙中的工件呈 30 度噴射﹐若不進行這樣的改變, 集流腔上噴嘴的安裝方式將會導致每個相 領噴嘴的噴射角度都不一致。