通常用循環(huán)熱風烤箱或熱風道將墨膜內(nèi)的稀釋劑“趕”出去。正確掌握烘烤溫度和烘烤時間非常重要，若溫度低和時間短，膜內(nèi)的溶劑揮發(fā)不掉，曝光時粘菲林，顯影時膜不牢;如果溫度過高或烘烤時間過長，由于感光樹脂產(chǎn)生熱交聯(lián)反應，部分雙鍵被打開，已形成網(wǎng)狀結構，當曝光時已失去光化學反應機能，造成感度下降;顯影時，因未曝光部分已形成網(wǎng)狀結構，不溶于稀堿溶液，造成顯影難。


蝕刻，通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。來料檢驗當接到客戶需要加工的工件時，首先我們要經(jīng)過檢查，也就是我們目前IQC工序所要做的工作，把接到客戶的加工工件抹干凈，然后進行仔細檢驗，把來料中存在的不良品剔除出來，保證投入的產(chǎn)品是良品。

蝕刻：蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。蝕刻利用蝕刻液與銅層反應,蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。蝕刻技術可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩類。

曝光：經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉移到感光底板上。

蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

在感光科學中,鹵化銀的顯影過程可分為化學顯影和物理顯影兩大類.二者的區(qū)別在于:在化學顯影過程中,銀離子是來自于鹵化銀晶格,催化銀離子還原的是鹵化銀晶體曝光后產(chǎn)生的潛影中心,生成的金屬銀沉積在物理顯影核的表面,一般呈顆粒狀.基于物理顯影原理的銀鹽擴散轉移體系在一步攝影、直接制版印刷等多方面得到了廣泛的應用，并擴散轉移到物理顯影核層,由顯影劑還原成銀.用水洗液將乳劑層洗去后。