這種鍍鈦涂層工藝生產出來的精密零件，往往具有很好的耐磨性，較其他未氮化鈦涂層的金屬而言，更能夠承受腐蝕等不良環(huán)境的考驗，使用壽命較長，且氮化鈦用作鍍鈦涂層可有效的增強金屬的表面硬度，使金屬的耐磨性增強，氮化鈦良好的導電性能能夠使產品適用于醫(yī)學、玻璃以及手飾等行業(yè)有很多公司搞滾子結構不徹底，出現(xiàn)效果不明顯，認為是結構不行，其實是人不行而已。大約在八十年代中后期，出現(xiàn)了熱陰極電子槍蒸發(fā)離子鍍、熱陰極弧磁控等離子鍍膜機，應用效果很好，使TiN涂層刀具很快得到普及性應用。他們會采用結構鑲件表面鍍鈦來加大光滑度，這種也可以，不過效果稍差

直流二級離子鍍，是穩(wěn)定的輝光放電；空心陰極離子鍍與熱絲弧離子鍍，是熱弧光放電，產生電子的原因均可簡單概括為金屬材料由于被加熱到很高的溫度，導致核外電子的熱發(fā)射；陰極電弧離子鍍的放電類型與前面幾種離子鍍的放電類型均不相同，它采用的是冷弧光放電。這么做不僅僅是為了增加產品的美觀程度，也可以很大程度上提升其使用壽命，所以在實際中得到了廣泛應用，成為當今公認的、能加工硬脆非金屬材料的工具。在眾多離子鍍膜技術中陰極電弧離子鍍可謂是其中的集大成者，其目前已經逐步發(fā)展為硬質薄膜領域的主力。

較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產生輝光放電。多弧鍍設備結構簡單，容易操作。它的離子蒸發(fā)源靠電焊機電源供電即可工作，其引弧的過程也與電焊類似，具體地說，在一定工藝氣壓下，引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸，斷開，使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動的弧斑，在蒸發(fā)源表面上連續(xù)形成熔池，使金屬蒸發(fā)后，沉積在基體上而得到薄膜層的，與磁控濺射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金屬離子離化率高，薄膜與基體之間結合力強的優(yōu)點。