碳化硅在三大領域的作用？

在半導體領域的應用：碳化硅一維納米材料由于自身的微觀形貌和晶體結構使其具備更多獨特的優(yōu)異性能和更加廣泛的應用前景，被普遍認為有望成為第三代寬帶隙半導體材料的重要組成單元。第三代半導體材料即寬禁帶半導體材料，又稱高溫半導體材料，主要包括碳化硅、氮化、氮化鋁、氧化鋅、金剛石等。

這類材料具有寬的禁帶寬度、高的熱導率、高的擊穿電場、高的抗輻射能力、高的電子飽和速率等特點，適用于高溫、高頻、抗輻射及大功率器件的制作。第三代半導體材料憑借著其優(yōu)異的特性，未來應用前景十分廣闊。碳化硅可用于單晶硅、多晶硅、鉀、石英晶體等、太陽能光伏產(chǎn)業(yè)、半導體產(chǎn)業(yè)、壓電晶體產(chǎn)業(yè)工程性加工材料。

節(jié)能方面的應用：利用良好的導熱和熱穩(wěn)定性，作熱交換器，燃耗減少20%，節(jié)約燃料35%，使生產(chǎn)率提高20-30%。特別是礦山選廠用排放輸送管道的內(nèi)放，其耐磨程度是普通耐磨材料的6—7倍。碳化硅的工業(yè)制法是用石英砂和石油焦在電阻爐內(nèi)煉制。煉得的碳化硅塊，經(jīng)破碎、酸堿洗、磁選和篩分或水選而制成各種粒度的產(chǎn)品。

碳化硅是一種新型的強復合脫氧劑，可以在煉鋼過程中有效的將鋼水中的氧氣處理較終起到脫氧的作用，使脫氧時間縮短，節(jié)約能源，提髙煉鋼效率，提髙鋼的質量，降低原輔材料消耗，減少環(huán)境污染，改善勞動條件，碳化硅是一種新型的強復合脫氧劑，取代了傳統(tǒng)的硅粉碳粉進行脫氧和原工藝相比各項理化性能更加穩(wěn)定脫氧效果好。

碳化硅的冶金使用？

碳化硅含硅約70％，含碳30％，并有少量游離碳和硅。高純碳化硅一般含量在96％以上，做磨具磨料用，有黑色，綠色等顏分，普通碳化硅在80％以下，多顯綠色和其他色。鑄造用碳化硅盡量在90％左右，一是高純料，硬度高，熔點也高，低純料可能雜質太多。還有一種再生碳化硅，較便宜，是用碳化硅回收的舊電器件加工而成。

在電爐里用料，盡量顆粒細一些，0.5－3毫米，這樣容易熔化，吸收，在沖天爐里使用，則塊度大一點，以免被強氣流沖出。高溫下，碳化硅分解成碳和硅離子，它們的化學特性是首先和氧反應，所以有減輕鐵水的氧化作用，后分別進入鐵水，首先成為石墨的結晶核心，大家都知道，碳和硅都有較強的孕育作用，所以它們對電爐和低碳硅鐵水的熔煉有很好的幫助。