PVD是物理氣相沉積技術的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術，常見的PVD沉積技術有：蒸發(fā)技術、濺射技術、電弧技術。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護性鍍層,但主要以添加防護性鍍層(金屬鍍層、有機物鍍層和復合鍍層)為主。防護性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。添加鍍層的方法有電鍍、化學鍍、物理氣相沉積等。

怎么保證真空鍍膜設備鍍膜效果與質量

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。真空鍍膜設備若有灰塵，將會影響真空鍍膜的效果和質量。首先，被鍍膜材料表面肯定是有灰塵的，在盡量減小材料表面灰塵的前提下，我們還應當注意以下幾點：

1、真空鍍膜設備使用一段時間后，必須要對設備進行清潔維護；

2、規(guī)范操作人員及操作要求，包括穿戴專業(yè)的服裝、手套、腳套等；

3、嚴格處理襯底材料，做到清潔干凈，合乎工藝要求；

真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。隨著全球制造業(yè)高速發(fā)展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。

  中國真空鍍膜機械行業(yè)，經(jīng)過了幾十年發(fā)展，形成了門類齊全、布局合理，品種配套，真空鍍膜技術水平與鍍膜工業(yè)發(fā)展基本適應的體系，真空鍍膜設備已經(jīng)不能再叫新行業(yè)了，其是一個有創(chuàng)新能力的成熟行業(yè)，鍍膜技術從重污染轉為輕污染直至以后的無污染，創(chuàng)新是前提，隨著更新型節(jié)能環(huán)保的真空機械設備研發(fā)必將改變整個工業(yè)。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢。

真空鍍膜機-操作步驟

一、電控柜的操作;

開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。

觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后，關予抽，開前機和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。