雙面研磨機(jī)

雙面研磨機(jī)（double side lapping machine）主要用于兩面平行的機(jī)械零件或晶體進(jìn)行雙面研磨，特別是薄脆性材料的加工。加工中只要找到產(chǎn)生彎曲變形的主要影響因素，彎曲變形就會(huì)很容易避免了。適用于各種材質(zhì)的機(jī)械密封環(huán)、陶瓷片、氣缸活塞環(huán)、油泵葉片、軸承端面/硬質(zhì)合金、不銹鋼、粉末冶金等金屬材料及硅、鍺、石英晶體、石墨、藍(lán)寶石、光學(xué)水晶、玻璃、鈮酸鋰等晶體的平面研磨和拋光。

工件在平面研磨機(jī)加工中，產(chǎn)生變形的原因是什么？

工件研磨加工中，產(chǎn)生變形的原因，對(duì)較薄的工件之間的研磨時(shí)，產(chǎn)生彎曲變形是產(chǎn)生彎曲變形是工件加工中常見的變形之一。產(chǎn)小彎曲變形與許多因素有關(guān)，比如，工件的原始精度比較的差，需要很長的時(shí)間的研磨加工。

加工過程中所使用的平面研磨機(jī)的研磨盤研具本身的精度很差，嵌砂質(zhì)量欠佳，并且切削能力很低，研磨壓力過大，并且研磨的速度過高，潤滑狀況不良及研磨運(yùn)動(dòng)中不當(dāng)而造成移動(dòng)不平穩(wěn)等因素。

加工中只要找到產(chǎn)生彎曲變形的主要影響因素，彎曲變形就會(huì)很容易避免了。

例如說在平面研磨機(jī)加工過程中，為了能夠克服磨削時(shí)所造成的彎曲，應(yīng)該注意經(jīng)常修正砂輪精度，保證可以充分的冷卻潤滑，如果是采用適當(dāng)?shù)哪ハ饔昧康脑挘ぜ诖盼P上要多次翻置并且加工余量的去除要由大到小等方法，特別是終的精密還需要注意重新修整砂輪精度，保證沒有出現(xiàn)偏差，磨量需要很小 (0.005~0.01毫米)，往復(fù)次數(shù)也要做到盡量的少，工件在加工時(shí)要保證能夠充分并且均勻的被加工，就需要幾次翻置并需應(yīng)注意有充分的冷卻。在研磨古典敷料（即不連續(xù)）的情況時(shí)，花了時(shí)間用不必要的敷料，而這又增加了生產(chǎn)成本。

平面研磨機(jī)-雙面研磨機(jī)介紹

雙面研磨機(jī)是一款能實(shí)現(xiàn)平面，磨倒角，去毛刺，切割，雕刻，研磨，拋光等工序的研磨拋光設(shè)備，是用涂上或嵌入磨料的研具對(duì)工件表面進(jìn)行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。雙面研磨機(jī)的主要類型有圓盤式研磨機(jī)、轉(zhuǎn)軸式研磨機(jī)和各種專用研磨機(jī)。是一種精細(xì)研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平坦的研磨盤上，研磨盤逆時(shí)針滾動(dòng)，皮帶輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方法對(duì)工件施壓，工件與研磨盤作相對(duì)運(yùn)動(dòng)磨擦，來達(dá)到研磨拋光的目的。雙面研磨機(jī)控制系統(tǒng)以PLC為控制核心，文本顯示器為人機(jī)對(duì)話界面的控制方式。人機(jī)對(duì)話界面可以就設(shè)備維護(hù)、運(yùn)行、故障等信息與人對(duì)話;操作界面直觀方便、程序控制、操作簡(jiǎn)單。多方位安全考慮，非正常狀態(tài)的誤操作。平面研磨機(jī),平面拋光機(jī)

雙面研磨機(jī)的平整度：隨著加工領(lǐng)域的不斷深化及精度和效率要求越來越高，鑄鐵盤、合成盤、銅盤、純錫盤、樹脂盤發(fā)展到金剛石盤，并通過各種方法把盤的平面訂修到合適達(dá)2um。粗糙度：粗糙度取決于磨料顆粒的大小、形狀和磨盤的材料， 以及工件材質(zhì)及硬度。當(dāng)工件上的薄膜鈍化的厚度與小鋸齒差不多被去掉的時(shí)候，所研磨拋光的速度就需要慢慢的減緩。加工工藝系統(tǒng)中工件會(huì)由于加工溫度的升高而產(chǎn)生較為復(fù)雜變形，這使它們之間的相對(duì)位置發(fā)生改變，破壞了工件和磨盤之間所存在的正確相對(duì)運(yùn)動(dòng)關(guān)系，使的已經(jīng)調(diào)整好的工件加工尺寸發(fā)生變化;同時(shí)，工件的變形也會(huì)引起工件加工深度和切削力的改變，終導(dǎo)致工件加工精度被破壞。