對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。

蒸發(fā)源有三種類型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和亞離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度大大提高。②高頻感應加熱源：用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。

進行產(chǎn)品加工時。操作員要保持正確的姿態(tài)，要有充足的精力敷衍作業(yè)，如發(fā)現(xiàn)身體不適，為了人身安全，有必要馬上脫離作業(yè)崗位，并向車間主管或更高層次的領導反映?；患訜岬揭欢囟?，沉積在基片上的分子可以徙動，按基片晶格次序生長結晶用分子束外延法可獲得所需化學計量比的高純化合物單晶膜，薄膜較慢生長速度可控制在1單層／秒。操作時有必要思想會集，制止閑談，相互配合，操作者切勿在煩躁、疲倦的狀態(tài)下操作，為了人身安全，防止發(fā)作事端，確保操作安全。所有職工在進入作業(yè)崗位前，查看自己服飾是否符合作業(yè)要求。禁絕穿拖鞋、高跟鞋及影響安全的服裝，留長頭發(fā)的要戴安全帽。

使用正確的刀尖半徑：更大的刀尖半徑將能夠適應更快的速度。插入件能夠以每轉(zhuǎn)約TNR的一半進給，并且仍然產(chǎn)生良好的結果。如果超過此TNR與IPR比率，該工具將創(chuàng)造更多“線狀”表面光潔度，而不是您想要的光澤光滑表面。如果超過此TNR與IPR比率，該工具將創(chuàng)造更多“線狀”表面光潔度，而不是您想要的光澤光滑表面。因此，TNR越大，它可以容納的進給速度越快，并且仍然產(chǎn)生期望的結果。然而，使用非常大的TNR可以產(chǎn)生顫振- 減少切割壓力- 所以要小心并考慮切割材料所需的速度- 使用符合您需求的TNR工具。