反滲透膜化學清洗

在正常運行條件下，反滲透膜也可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質(zhì)沉積在膜表面上會引起凈水設(shè)備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、s壓差升高，甚至對膜造成不可恢復(fù)的損傷，因此，為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能，需要對膜進行化學清洗。

一般3～12個月清洗一次，如果每個月不得不清洗一次，這說明應(yīng)該改善的預(yù)處理系統(tǒng)，調(diào)整的運行參數(shù)。如果1～3個月需要清洗一次，則需要提高設(shè)備的運行水平，是否需要改進預(yù)處理系統(tǒng)較難判斷。

反滲透設(shè)備日常維護和清洗方法

短期保存適用于停運15d以下的系統(tǒng)，可采用每1～3d低壓沖洗的方法來保護反滲透設(shè)備。實踐發(fā)現(xiàn)，水溫20℃以上時，反滲透設(shè)備中的水存放3d就會發(fā)臭變質(zhì)，有大量細菌繁殖。因此，建議水溫高于20℃時，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所有進出口閥門。長期停用保護適用于停運15d以上的系統(tǒng)，這時必須用保護液(殺菌劑)充入凈水設(shè)備反滲透裝置進行保護。

I、降低進水濁度或拆下流量計清洗或更換流量計。

純凈水設(shè)備使用時需要避免的問題   

首先應(yīng)考慮藥劑與藥劑之間的兼容性，其次應(yīng)考慮藥劑與膜材料的兼容性。例如，RO系統(tǒng)中經(jīng)常同時使用混凝劑，助凝劑，殺菌劑，還原劑和阻垢劑。由于天然水中的膠體一般帶負電荷，所以通常使用帶正電荷的陽離子型混凝劑。為了防止R0裝置結(jié)垢，RO的進水端幾乎都考慮了投加阻垢劑的措施，這些阻垢劑幾乎都是帶有負電荷的。因此，應(yīng)避免陽離子型混凝劑與陰離子型的阻垢劑發(fā)生反應(yīng)，防止反應(yīng)生成的膠體化合物在膜面沉積。