ZF450型全自動(dòng)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)電阻器熱蒸發(fā)鍍膜供貨商，我們?yōu)槟峁┫铝行畔?nèi)容。

選用3～8組蒸發(fā)源可適配金屬材料、有機(jī)化合物蒸發(fā)。廣泛運(yùn)用于高等院校材料、物理學(xué)、有機(jī)化學(xué)、電子器件、電力能源等有關(guān)課程及其科研單位制取高品質(zhì)作用塑料薄膜、蒸鍍電級(jí)等，非常合適OPV/鈣鈦礦/無機(jī)物太陽能薄膜充電電池、半導(dǎo)體材料、有機(jī)化學(xué)EL、OLED顯示信息科學(xué)研究與開發(fā)設(shè)計(jì)行業(yè)。采用Parylene進(jìn)行涂層，可得到均勻一致，透明且極薄的膜層。

1.前開關(guān)門真空內(nèi)腔，便捷拿取基片、拆換蒸發(fā)舟、加上蒸發(fā)材料及其真空室的平時(shí)維護(hù)保養(yǎng)；

2.1200L/s分子泵做為主抽泵，真空限達(dá)到5×10-5Pa； 

另可選擇進(jìn)口磁懸浮分子泵或是低溫泵做為主抽泵，真空限達(dá)到 3×10-6Pa；

3. 組水冷器蒸發(fā)電級(jí)，可長期平穩(wěn)工作中，適配金屬材料材料與有機(jī)化學(xué)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì)方案，

源間有避免交叉式環(huán)境污染擋板；

4. 真空蒸發(fā)開關(guān)電源，恒流電源/恒輸出功率操縱?？杀３忠绘I啟動(dòng)和終止的自動(dòng)控制系統(tǒng)作用；

5.較大120mm基片/15～25mm ITO/FTO夾層玻璃25片，可訂制一體化高精密刻蝕掩膜板；

6.基片臺(tái)自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速比0～25rpm持續(xù)可調(diào)式；

7. 襯底可挑選加溫或水冷散熱，源基距較大350mm；

8. 選用進(jìn)口膜厚監(jiān)控器儀在線監(jiān)控和操縱蒸發(fā)速度、膜厚；

9. 可堆積金屬材料（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬材料、化學(xué)物質(zhì)（MoO3, LiF等）

及有機(jī)化合物材料， 可擴(kuò)展堆積單面膜、雙層膜及混和膜；

以上就是關(guān)于電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話或關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司！

300D三源有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)

主要用途：

特別適合OPV/鈣鈦礦/無機(jī)薄膜太陽能電池、半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室系統(tǒng)蒸發(fā)室、蒸發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺(tái)系統(tǒng)、 真空抽氣及測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、膜厚測試 系統(tǒng)、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度6.7×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa（短時(shí)間暴露 大氣并充干燥氮?dú)夂箝_始抽氣）

樣品臺(tái)：尺寸為4英寸平面樣品；

蒸發(fā)源：3套

4套擋板系統(tǒng)：擋板共有3套，動(dòng)密封手動(dòng)控制；

氣路系統(tǒng):質(zhì)量流量控制器1路

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999?

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)

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