達因特PLASMA蓋板處理機是一款屏幕全自動等離子處理設(shè)備。等離子清洗機性能卓越，其加工范圍廣泛。該設(shè)備通過觸摸屏操作簡單、快捷，從而使生產(chǎn)效率大大提高。

    自動剪線設(shè)備分為三部分：等離子、排風、移動平臺。

   主要技術(shù)參數(shù)：   

 電壓：220V±10%    

氣壓：0.2MPA    

排風量：2100m3/h    

X軸（橫臂）：600mm    

Y1 ，Y2軸（1,2工作位）：350mm    

U軸（上下）(mm)：50mm  

  X軸（橫臂）速度：0.5-120mm/s   

Y1 ，Y2軸速度：0.5-150mm/s    

功率：等離子2800W；

電機1600W    

外形尺寸：1450mm *1000mm * 1760mm

設(shè)備作用：提高玻璃蓋板表面附著力，去除灰塵，靜電。防指紋鍍膜液噴涂前處理，粘接接處理。

     材料表面改性方法包括化學的和物理的方法。通常化學方法比較繁瑣,且大量應(yīng)用有毒化學試劑,容易對環(huán)境造成污染,對人體也有極大危害。與其相比,低溫等離子體表面處理技術(shù)具有工藝簡單、操作簡便、易于控制、對環(huán)境無污染等優(yōu)點,日益受到人們的青睞。

　　低溫等離子體中含有各種活性粒子:電子、粒子,各種激發(fā)態(tài)的原子、分子及自由基等。

　　在這些活性粒子的作用下,材料的表面性質(zhì)將會發(fā)生改變。等離子體的特點是:(1)它對材料表面的作用深度僅數(shù)百埃,不會影響基體材料的性質(zhì);(2)能夠處理各種形狀的表面;(3)有較強的殺菌作用。正是由于低溫等離子體的獨特性,最近幾年在材料表面改性中已經(jīng)引起人們越來越多的注意和興趣。

　　近十幾年來,低溫等離子體廣泛用于改變金屬材料的表面力學性能,即材料的磨損、硬度、摩擦、疲勞、耐腐蝕等性能。

　達因特等離子處理設(shè)備主要是應(yīng)用等離子體進行材料的表面改性，從而達到活化材料表面，提高附著力的效果。

　 等離子表面處理器在活化材料表面工藝中的應(yīng)用，直接產(chǎn)生的益處在于：

★產(chǎn)品品質(zhì)更加穩(wěn)定，不會出現(xiàn)粘接不穩(wěn)，粘附力不好的效果；

★處理行業(yè)的成本降低，節(jié)約成本達40%以上；

★直接消除其它處理條件下環(huán)境及設(shè)備的影響；

★提高工作效率。

★噴射出的等離子體流為中性，不帶電，可以對各種高分子、金屬、玻璃、橡膠、PCB電路板等材料進行表面處理；

★提高塑料件粘接強度，例如PP材料處理后可提升數(shù)倍，大部分塑料件處理后使表面能量達到60達因以上；

★等離子體處理后表面性能持久穩(wěn)定，保持時間長；

★干式方法處理無污染，無廢水，符合環(huán)保要求；

★可以在生產(chǎn)線上在線運行處理，降低成本。

我們越來越多的客戶包括以下行業(yè)：，汽車部件，電子，電纜，，管道等等。通過我們多年的經(jīng)驗和持續(xù)的產(chǎn)品開發(fā)，我們已經(jīng)成為等離子表面改性設(shè)備的供應(yīng)商之一。無論您的設(shè)備需要什么等離子表面改性領(lǐng)域，達因科技在這里幫助您找到的表面改性技術(shù)和設(shè)備來解決您的問題。

真空等離子體處理如何幫助解決粘附問題？

   為了獲得與低表面能材料如PP，PE，HDPE等低或非極性材料的良好粘附性，我們需要修改表面，即增加其極性。將組件放置在等離子體腔內(nèi)存在的高度活躍的環(huán)境中是增加材料極性的理想方法。存在于高活性等離子體放電中的自由基和其他顆粒可能附著在材料表面，導(dǎo)致在材料表面形成額外的極性基團，這些對油墨，油漆，涂料，粘合劑等具有強烈的化學吸引力以顯著增強表面能和因此附著力。

室類型大腔體真空等離子清洗機：

?旋轉(zhuǎn) - 用于小部件。

?單個架子 - 用于大型零件。

?多層架子 - 用于扁平部件。

?實驗室 - 用于測試設(shè)施。

托盤配置：

?專用托盤。

?可移動的托盤。

?重型托盤。

   我們的產(chǎn)品范圍內(nèi)還有一個臺式實驗室真空等離子體  裝置，它便攜，足夠小，可以放在長凳上，是解決表面潤濕性問題的經(jīng)濟高效的解決方案。該設(shè)備安裝非常簡單，可在幾分鐘內(nèi)運行。它只需要一個240V，13安培的電源，并配有自己的真空泵，無需連接任何單獨的真空電源。大氣和真空等離子體是帶電粒子和中性粒子（原子，自由基和分子）的混合物，可以與各種材料反應(yīng)。等離子體廣泛用于清潔表面，去除陶瓷中的有機污染物。