精拋時在木桶中裝入鋼球和毛皮碎塊，連續(xù)轉(zhuǎn)動數(shù)小時可得到耀眼光亮的表面。精密線紋尺的拋光是將加工表面浸在拋光液中進行的，拋光液由粒度為W5～W0.5的氧化鉻微粉和乳化液混合而成。 拋光輪采用材質(zhì)勻細經(jīng)脫脂處理的木材或的細毛氈制成，其運動軌跡為均勻稠密的網(wǎng)狀，拋光后的表面粗糙度不大于Ra0.01微米，在放大40倍的顯微鏡下觀察不到任何表面缺陷。此外還有電解拋光等方法。

鋁合金型材轉(zhuǎn)移.化學拋光后,鋁合金型材應該迅速轉(zhuǎn)移到水洗槽中進行水洗.因為附著在鋁合金型材上的化學拋光槽液十分黏滯,鋁合金型材出槽后溫度迅速冷卻,化學反應還在繼續(xù),氣體不斷逸出,含量很快下降,表面液體層的溶鋁量不斷升高,越來越偏離正常的化學拋光所必要的工藝條件.如果鋁合金型材轉(zhuǎn)移遲緩,就有可能出現(xiàn)轉(zhuǎn)移浸蝕等缺陷.

這兩個概念主要出半導體加工過程中，的半導體基片（襯底片）拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學機械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術(shù)綜合了化學和機械拋光的優(yōu)勢：單純的化學拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，平整性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深?；瘜W機械拋光可以獲得較為平整的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個數(shù)量級，是能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的有效方法。