真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎?

前一段時間有一個采購光學(xué)鍍膜機的客戶簽訂協(xié)議的時候，咨詢我這個問題，真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工有沒有什么需要注意的地方。在簽訂協(xié)議完成的后一個環(huán)節(jié)，我們的銷售培訓(xùn)了大量的設(shè)備相關(guān)的操作知識和注意事項，客戶也學(xué)到了不少相關(guān)的知識。今天至成真空小編也再次詳細(xì)和大家講解一下真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上應(yīng)該注意的事項，加強大家的設(shè)備方面的知識和技能。

真空鍍膜機光學(xué)鍍膜加工上有什么要注意的嗎？當(dāng)光線進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學(xué)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達(dá)30%至40%?，F(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達(dá)95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對于單層薄膜來說，當(dāng)增透膜兩邊介質(zhì)不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質(zhì)1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質(zhì)。一般光學(xué)透鏡都是在空氣中使用，對于一般折射率在1.5左右的光學(xué)玻璃，為使單層膜達(dá)到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k 1)倍四分之一個波長。單層膜只對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內(nèi)和更多波長實現(xiàn)增透，人們利用鍍多層膜來實現(xiàn)。

人們對增透膜的利用有了很多的經(jīng)驗，發(fā)現(xiàn)了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進(jìn)的鍍膜技術(shù)，因此增透膜的應(yīng)用涉及醫(yī)學(xué)、軍事、太空探索等各行各業(yè)，為人類科技進(jìn)步作出了重大貢獻(xiàn)。

多弧濺射在靶材上施小電壓大電流的作用

多弧濺射在靶材上施小電壓大電流使材料離子化（帶正電顆粒），從而高速擊向基片(負(fù)電)并沉積，形成致密膜堅硬膜。主要用于耐磨耐蝕膜。中頻濺射的原理跟一般的直流濺射是相同的,不同的是直流濺射把筒體當(dāng)陽極,而中頻濺射是成對的,筒體是否參加必須視整體設(shè)計而定,與整個系統(tǒng)濺射過程中,陽極陰極的安排有關(guān),參與的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的濺射產(chǎn)額,得到不相同的離子密度中頻濺射主要技術(shù)在于電源的設(shè)計與應(yīng)用,目前較成熟的是正弦波與脈沖方波二種方式輸出,各有其優(yōu)缺點,首先應(yīng)考慮膜層種類,分析哪種電源輸出方式適合哪種膜層,可以用電源特性來得到想要的膜層效果.中頻濺射也是磁控濺射的一種,一般真空鍍膜機磁控濺射靶的設(shè)計,磁場的設(shè)計是各家技術(shù)的重點,國際幾個有名的濺射靶制造商,對靶磁場的設(shè)計相當(dāng)專業(yè),改變磁場設(shè)計能得到不相同的等離子體蒸發(fā)量.電子的路徑,等離子體的分布.關(guān)于陰極弧（也就是離子鍍），磁控濺射，以及坩堝蒸發(fā)都屬于PVD（物理氣相沉積），坩堝蒸發(fā)主要是相變，蒸發(fā)靶材只有幾個電子伏特的能量。

PVD真空鍍膜機鍍膜工藝原理

PVD即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜。PVD真空鍍膜機鍍膜工藝原理分為以下三種情況：

（1）真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

（2）濺射鍍膜基本原理：充Ar（Ar）氣的真空條件下，使Ar氣進(jìn)行輝光放電，這時Ar（Ar）原子電離成Ar離子（Ar），Ar離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。

（3）離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

離子鍍膜機的應(yīng)用及保養(yǎng)和維修

真空鍍膜機型號各式各樣，用途不一樣，對應(yīng)設(shè)備型號自然也就不一樣，今天至成真空小編要為大家詳細(xì)介紹的離子鍍膜機的應(yīng)用及保養(yǎng)和維修，希望能幫到大家：

離子鍍膜機的應(yīng)用范圍可以分為兩大類，一：工具類產(chǎn)品的鍍膜，二：為裝飾鍍膜。工具類產(chǎn)品鍍膜以刀具為例，在其硬質(zhì)合金打造的刀身表面進(jìn)行離子鍍膜之后，其表面的硬度和自潤滑性會明顯得到提升，減少了在切削過程中的粘刀現(xiàn)象，也大幅度提升了刀具的使用壽命。這也是現(xiàn)在很多刀具廠家會采用離子鍍膜機的主要原因。對于工具類鍍膜有著延長其使用壽命的作用，對于后者主要是針對裝飾鍍膜，則更多偏向于表面裝飾。

裝飾類鍍膜實際上是可以包括工具鍍膜的，原因在于類似刀具這類產(chǎn)品，在經(jīng)過鍍膜之后不僅性能和使用壽命得到了提升，其表面的光澤度也有了非常明顯的變化。特別是金屬類產(chǎn)品，在經(jīng)過離子鍍膜機再次加工之后，往往其價值會得到進(jìn)一步的提升，這就是為其表面美化的主要作用。

保養(yǎng)這方面，不管是什么機械產(chǎn)品，想要長久地使用下去，以及在日常使用中有著優(yōu)良的性能，對于其日常的保養(yǎng)維護肯定是必不可少的。今天給大家說說離子鍍膜機日常保養(yǎng)和維護的好處。