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宿州測(cè)厚儀廠家性價(jià)比出眾

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發(fā)布時(shí)間:2020-08-13 12:03  







一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀 

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005umxiao測(cè)量面積0.002m㎡  深凹槽20mm以上

鍍層厚度分析儀使用注意事項(xiàng)

1.儀器供電電壓必須與儀器銘牌上的電壓一致。儀器必須使用三線插頭連到一個(gè)已接地的插座上。

2.鍍層厚度分析儀為精密儀器,建議配備的穩(wěn)壓電源。計(jì)算機(jī)和儀器應(yīng)配備不間斷電源(UPS)。

3.鍍層厚度分析儀應(yīng)特別注意與存在電磁的場(chǎng)合隔離開(kāi)來(lái)。

4.儀器適合在10~40℃(50~104℉)的環(huán)境溫度下操作使用,在0~50℃(32~122℉)的溫度下存放。操作和存放的允許濕度范圍在0~65%之間(非冷凝)。在操作過(guò)程中,環(huán)境溫度和濕度應(yīng)保持恒定。

5.儀器曝曬在陽(yáng)光下時(shí)溫度極易超過(guò)50℃。所以請(qǐng)不要在這樣的環(huán)境下操作和存放儀器,以避免高溫對(duì)儀器造成損害。

6.為避免短路,嚴(yán)禁儀器與液體直接接觸。如果液體進(jìn)入儀器,請(qǐng)立刻關(guān)閉儀器并在重新使用前請(qǐng)技術(shù)人員整體檢查儀器。

7.鍍層厚度分析儀不能用于酸性環(huán)境和場(chǎng)合。

8.不要弄臟和刮擦元素片或調(diào)校標(biāo)準(zhǔn)片,否則會(huì)造成讀數(shù)錯(cuò)誤。

9.不要用任何機(jī)械或化學(xué)的方法清除元素片或調(diào)校標(biāo)準(zhǔn)片上的污物。如果必要的話,可以用一塊不起毛的布輕輕擦除臟物。

定位方式:


    1、移動(dòng)平臺(tái):

       A、手動(dòng)(普通和帶精密滑軌移動(dòng)):裝配設(shè)計(jì)不同精準(zhǔn)移位從0.5mm-0.005mm不等,移動(dòng)的靈動(dòng)性差距也很大。

       B、電動(dòng)(自動(dòng)):裝配設(shè)計(jì)不同精準(zhǔn)移位從0.2mm-0.002mm不等

但同樣的手動(dòng)或者自動(dòng),其定位精準(zhǔn)也相差很多。

     2、高度定位:

         A、手動(dòng)變焦和無(wú)變焦

         B、激光對(duì)焦和CCD識(shí)別對(duì)焦


薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1~104的原子層或分子層。在此方向上,薄膜具有微觀結(jié)構(gòu)。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的,其他的兩維方向具有宏觀大小。所以,表示薄膜的形狀,一定要用宏觀方法,即采用長(zhǎng)、寬、厚的方法。因此,膜厚既是一個(gè)宏觀概念,又是微觀上的實(shí)體線度。

      由于實(shí)際上存在的表面是不平整和連續(xù)的,而且薄膜內(nèi)部還可能存在著、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等,所以,要嚴(yán)格地定義和測(cè)量薄膜的厚度實(shí)際上是比較困難的。膜厚的定義應(yīng)根據(jù)測(cè)量的方法和目的來(lái)決定。  

經(jīng)典模型認(rèn)為物質(zhì)的表面并不是一個(gè)抽象的幾何概念,而是由剛性球的原子(分子)緊密排列而成,是實(shí)際存在的一個(gè)物理概念。

形狀膜厚:dT是接近于直觀形式的膜厚,通常以u(píng)m為單位。dT只與表面原子(分子)有關(guān),并且包含著薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響;

質(zhì)量膜厚:dM反映了薄膜中包含物質(zhì)的多少,通常以μg/cm2為單位,它消除了薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響(如缺陷、、變形等);

物性膜厚:dP在實(shí)際使用上較有用,而且比較容易測(cè)量,它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無(wú)直接關(guān)系,主要取決于薄膜的性質(zhì)(如電阻率、透射率等)。


       江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區(qū)。我們專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn),經(jīng)與海內(nèi)外多名專家通力合作,研究開(kāi)發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀

       X熒光鍍層測(cè)厚儀金屬成分含量的測(cè)定

在包含某種元素1的樣品中,照射一次X射線,就會(huì)產(chǎn)生元素1的熒光X射線,不過(guò)這個(gè)時(shí)候的熒光X射線的強(qiáng)度會(huì)隨著樣品中元素1的含量的變化而改變。元素1的含量多,熒光X射線的強(qiáng)度就會(huì)變強(qiáng)。注意到這一點(diǎn),如果預(yù)先知道已知濃度樣品的熒光X射線強(qiáng)度,就可以推算出樣品中元素1的含量。采用定量分析的時(shí)候,可以在樣品中加入高純度的二氧化硅,作為參比樣,并且摻量是已知的。這樣可以間接知道其他組分的含量。2.標(biāo)準(zhǔn)塊的選擇可用標(biāo)準(zhǔn)塊的單位面積厚度單位校準(zhǔn)儀器,厚度值必須伴隨著覆蓋層材料的密度來(lái)校正。


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