不銹鋼鍍鈦是一種比較新穎的表面處理方式：在真空室內(nèi)采用真空弧光放電技術(shù)，在陰極材料表面產(chǎn)生弧光，使陰極材料蒸發(fā)，形成原子和離子。在電場作用下，原子和離子束高速轟擊作為陽極的工件表面。降低Ar壓強(qiáng)有利于提高鍍膜速率,還有利于提高膜層結(jié)合力和膜層致密度。與此同時向真空室內(nèi)通入反應(yīng)氣體，即可在工件表面形成具有優(yōu)良性能的鍍層。陰極材料（也稱靶材）一般采用鈦、鉻、鋯等金屬，常用反應(yīng)氣體為氮氣和碳?xì)浠衔餁怏w。獲得的鍍層有TiN、CrN、TiC、ZrN等。    通過鍍鈦可以改變不銹鋼板表面的顏色，金黃色、玫瑰金、鈦金色、黑色、青古銅、紅古銅等等，選擇多樣，完全可以根據(jù)客戶的喜好來，自由度高，適用于各種風(fēng)格不同的場合。2    不銹鋼鍍鈦板材可以通過點焊、滿焊等加工方式進(jìn)行處理、剪折無脫離.適應(yīng)性更強(qiáng),適用范圍更廣,解決了以往復(fù)合板材焊接時容易出現(xiàn)的起泡剝離等問題.

感應(yīng)加熱式蒸發(fā)鍍膜

利用高頻電磁場感應(yīng)加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。

優(yōu)點蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右  蒸發(fā)源的溫度穩(wěn)定，不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象坩堝溫度較低，坩堝材料對膜導(dǎo)污染較少缺點蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價高、設(shè)備復(fù)雜

在真空中，高能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而逸出表面，到達(dá)襯底凝結(jié)成膜的技術(shù)。

與真發(fā)鍍膜相比，濺射鍍膜適用于所有（包括高熔點）材料，具有附著力強(qiáng)、成分可控、易于規(guī)?；a(chǎn)等優(yōu)點。

但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜，因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。

在靶材和襯底之間加上一個直流高壓，極板間的氣體（一般為Ar2）電離，高速帶電離子轟擊靶材表面的濺射鍍膜技術(shù)。根據(jù)膜層粒子的獲得方式，離子鍍可分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍，其中蒸發(fā)型離子鍍根據(jù)放電原理不同又可分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。要保持自持放電，在兩極板間距為數(shù)厘米的正常濺射間距下，放電氣壓一般高達(dá)10帕，這對濺射效率和薄膜質(zhì)量都是不利的。因此，直流濺射多采用非自持放電，也就是加入熱電子發(fā)射極和輔助陽極的四極濺射，可使濺射在10-1～10-2帕的低氣壓下進(jìn)行。

產(chǎn)生原因：產(chǎn)品周轉(zhuǎn)運輸或在爐內(nèi)生產(chǎn)時素材受到污染，產(chǎn)品表面有塵點、毛絲等，PVD出爐后灰塵脫落露出底材顏色。

解決方案：縮短產(chǎn)品在爐外停滯時間及爐內(nèi)潔凈度管控，減少異物掉落在產(chǎn)品表面。

產(chǎn)生原因：主要原因是產(chǎn)品表面臟污，膜層無法在產(chǎn)品上沉積或結(jié)合力差，在自然或人為的因素下產(chǎn)品表面漏出底材。

解決方案：將產(chǎn)品清洗干凈，避免污染產(chǎn)品，確保表面潔凈度。