江蘇友迪激光科技有限公司主力產(chǎn)品是數(shù)字化直接成像曝光機(jī)、物理氣相沉積真空鍍膜設(shè)備、新能源自動(dòng)化設(shè)備與感光油墨，三大主力產(chǎn)品已進(jìn)入量產(chǎn)，2018年將加大生產(chǎn)規(guī)模，增加市場(chǎng)占有率，歡迎新老客戶來電咨詢！

用于pcb工藝中的曝光工序，與傳統(tǒng)的底片接觸曝光方法有所不同

與傳統(tǒng)曝光的差別

1.傳統(tǒng)曝光是通過gong燈照射底片將圖像轉(zhuǎn)移至pcb上

2.LDI是用激光掃描的方法直接將圖像在pcb上成像，圖像更精細(xì)。

曝光

曝光是指將涂有感光層的PS版置于曬版機(jī)工作臺(tái)上，放好底片，通過曝光 獲得一種潛在或可見圖像的過程。曝光是一切光化學(xué)成像方法的基本過程與主要特征。曝光，曝光模式即計(jì)算機(jī)采用自然光源的模式，通常分為多種，手動(dòng)曝光、AE鎖等模式。照片的好壞與曝光有關(guān)，也就是說應(yīng)該通多少的光線使CCD能夠得到清晰的圖像。下燈曝光時(shí)，光線是直接直射到下方的鏡子里然后在折射到臺(tái)面上，因此說使用品行曝光機(jī)進(jìn)行曝光的時(shí)候，上燈的能量會(huì)比下燈的能量要更大一些，曝光及級(jí)數(shù)才會(huì)一樣。曝光量由通光時(shí)間（快門速度決定），通光面積（光圈大?。Q定。

DI直接成像曝光機(jī)

1、技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

所有MIVA 位圖影像系統(tǒng)使用獨(dú)特的曝光程序，使用率半導(dǎo)體光源系統(tǒng)和高解析度的光學(xué)模組，此系統(tǒng)將高清晰度的影像轉(zhuǎn)移至感光基材，根據(jù)產(chǎn)品需求解析度可從3000DPI 到128000DPI，光學(xué)頭在板材上方連續(xù)移動(dòng)曝光，高解析度的線性電機(jī)和光學(xué)尺可實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)的位置控制。我司現(xiàn)團(tuán)隊(duì)建設(shè)、制造工藝均取得豐碩成果，實(shí)現(xiàn)了標(biāo)準(zhǔn)化制造，同時(shí)培養(yǎng)了經(jīng)驗(yàn)豐富的應(yīng)用團(tuán)隊(duì)，能與客戶充分互動(dòng)，充分理解客戶的需求，使設(shè)備與客戶工藝充分結(jié)合，有興趣的客戶歡迎來咨詢。

2、耗電低：

待機(jī)時(shí)只需消耗350W，曝光時(shí)消耗2.5KW，這其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗，故機(jī)臺(tái)本身十分節(jié)能。機(jī)臺(tái)可使用單相電源。