真空鍍用的涂料有哪些?實(shí)際生產(chǎn)中如何完善這些涂料應(yīng)用中的涂裝技術(shù)?下面對(duì)此重點(diǎn)討論。在裝飾性真空鍍膜中，依靠完善的涂料涂裝技術(shù)，可取得耐磨性強(qiáng)、結(jié)合力好、光亮度高的鍍層。

1.涂層的作用和要求

裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種。為了滿足產(chǎn)品的不同技術(shù)要求，可施涂底涂層和面涂層，或在面涂層上再施涂彩色涂層、保護(hù)涂層等。這些涂層的主要作用是：

提高膜層的結(jié)合力。采用相同的鍍膜方法，在塑料基體上施涂底涂層再真空鍍膜，可提高膜層的結(jié)合力。

降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度。一般鍍件表面都存在微觀不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填補(bǔ)鍍件表面的缺陷，使鍍件表面達(dá)鏡面平整度。

能保護(hù)金屬膜層。真空鍍膜層一般只有100nm，膜層的耐磨性和抗變色能力較差，施涂面涂層后，鍍膜層與外界不直接接觸，對(duì)鍍膜層能起保護(hù)作用。

真空鍍膜的方法很多，計(jì)有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。真空鍍中對(duì)底涂層的要求：①對(duì)鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。

Parylene在電子產(chǎn)品領(lǐng)域的優(yōu)點(diǎn):

惡劣環(huán)境下線路板保護(hù)涂層，列入美軍標(biāo)MIL-I-46058C；滿足IPC-CC-830B

涂敷過程中不存在任何液態(tài)，無普通液體防護(hù)涂層的難以避免的流掛，氣孔、厚薄不均等嚴(yán)重缺陷；

*水分子透過率極低，僅為常見的有機(jī)硅樹脂的千分之一；

*聚合生長(zhǎng)的成膜方式阻止了離子在涂層和基板界面的擴(kuò)散，消除了常見的涂層下枝狀腐蝕。

*表面憎水特性進(jìn)一步降低潮濕和離子污染的不利影響；

*滲入芯片與基板間的微細(xì)間隙（甚至達(dá)10μm），提供完整的保護(hù)；

*大幅增強(qiáng)芯片-基板間導(dǎo)線（25μm粗細(xì)）的連接強(qiáng)度；

 釹鐵硼稀土磁性材料是一種問世不久的新型強(qiáng)磁材料。近年來在小型馬達(dá)、汽車電子，工具、揚(yáng)聲器、電力工具等方面應(yīng)用發(fā)展很快。但釹鐵硼稀土磁性材料弱點(diǎn)是容易被空氣中的水分及氧氣所腐蝕，因此必須有一個(gè)安全可靠的防護(hù)涂層釹鐵硼稀土磁性材料才有使用價(jià)值。目前國(guó)內(nèi)常用兩種方法進(jìn)行防護(hù)，一種是傳統(tǒng)的電鍍工藝在 鐵硼磁性材料表面鍍上鎳、鋅或錫、金等。這些涂層有時(shí)會(huì)影響磁性材料的表磁等特性，有的在鹽霧試驗(yàn)時(shí)仍不能對(duì)釹鐵硼磁性材料提供有效的防護(hù)。另一種方法是用環(huán)氧樹脂材料進(jìn)行電泳涂敷，但電泳涂敷時(shí)工件表面必須有一掛點(diǎn)，掛點(diǎn)的修補(bǔ)不僅費(fèi)工費(fèi)時(shí)，而且質(zhì)量難以保證，而Parylene涂層技術(shù)可控制涂層厚度進(jìn)行無支點(diǎn)全涂敷防護(hù)。Parylene又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，Parylene涂敷稀土磁性材料的技術(shù)和產(chǎn)品，目前國(guó)外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用Parylene進(jìn)行防護(hù)。鍍膜機(jī)真空機(jī)械選擇了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆?；覊m，有無腐蝕性等。