一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將***氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽離子會(huì)加速?zèng)_向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個(gè)沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。...........................

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通常按其施鍍面積可將電鍍分為全部鍍和局部鍍兩種。許多需局部電鍍的零件就要對(duì)其非鍍面進(jìn)行絕緣保護(hù)，這就要用不同的局部絕緣方法來滿足施工的技術(shù)要求，以保證零件非鍍面不會(huì)鍍上鍍層，真空鍍膜，尤其是有特殊要求的零件。

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首先電鍍液有六個(gè)要素：主鹽、附加鹽、絡(luò)合劑、緩沖劑、陽極活化劑和增加劑。

　　電鍍道理包括四個(gè)方面：電鍍液、電鍍反應(yīng)、電極與反應(yīng)道理、金屬的電沉積過程。

　　電鍍反應(yīng)中的電化學(xué)反應(yīng)：下圖是電鍍裝置示意圖，被鍍的零件為陰極，與直流電源的負(fù)極相連，金屬陽極與直流電源的正極聯(lián)結(jié)，陽極與陰均浸入鍍液中。當(dāng)在陰陽南北極間施加必然電位時(shí)，uv真空鍍膜哪家好，則在陰極發(fā)生以下反應(yīng)：從鍍液里面分散到電極和鍍液界面的金屬離子Mn 從陰極上獲取n個(gè)電子，復(fù)原成金屬M(fèi)。另一方面，在陽極則發(fā)生與陰極完全相反的反應(yīng)，即陽極界面上發(fā)生金屬M(fèi)的溶解，uv真空鍍膜，釋放n個(gè)電子生成金屬離子Mn 。

錦城鍍膜與您分享光學(xué)薄膜系指在光學(xué)元件或自力基板上，制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類膜的組合，以改變光波之傳遞特征，包含光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。故經(jīng)過得當(dāng)設(shè)計(jì)能夠調(diào)變差別波段元件表面之穿透率及反射率，亦能夠使差別偏振平面的光具有差別的特征。

一般來說，光學(xué)薄膜的生產(chǎn)方式主要分為干法和濕法的生產(chǎn)工藝。所謂的干式即是沒有液體出現(xiàn)在整個(gè)加工過程中，比方真空蒸鍍是在一真空環(huán)境中，以電能加熱固體原物料，經(jīng)升華成氣體后附著在一個(gè)固體基材的表面上，實(shí)現(xiàn)涂布加工。日常生活中所看到裝修用的金色、銀色或具金屬質(zhì)感的包裝膜，即是以干式涂布方式生產(chǎn)的產(chǎn)品。但是在實(shí)際量產(chǎn)的考慮下，干式涂布應(yīng)用的局限小于濕式涂布。濕式涂布一般的做法是把具有種種功能的成分混合成液態(tài)涂料，以差別的加工方式涂布在基材上，而后使液態(tài)涂料干燥固化做成產(chǎn)品。