微弧氧化原理

       微弧氧化或等離子體電解氧化表面陶瓷化技術(shù)，是指在普通陽極氧化的基礎(chǔ)上，微弧氧化技術(shù) 利用弧光放電增強(qiáng)并ji活在陽極上發(fā)生的反應(yīng)，從而在以鋁、鈦、鎂等金屬及其合金為材料的工件表面形成的強(qiáng)化陶瓷膜的方法，微弧氧化電源是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加電壓，微弧氧化使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，達(dá)到工件表面強(qiáng)化的目的。微弧氧化膜的基本特性是與待處理材料及其表面狀態(tài)有關(guān)的，也與槽液類型、電解質(zhì)溶液成、外加電壓、電流密度、槽液溫度和攪拌等因素有關(guān)。

微弧氧化技術(shù)的優(yōu)勢

       采用微弧氧化技術(shù)對鋁鎂鈦等輕金屬及其合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理，微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強(qiáng)，絕緣性好，膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng)，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。由于微弧氧化過程中工件表面具有較高的氧化電壓并通過較大的電解電流，使產(chǎn)生的熱量大部分集中于膜層界面處，而影響所形成膜層的質(zhì)量，因此微弧氧化必須使用配套的熱交換制冷設(shè)備，使電解液及時(shí)冷卻，保證微弧氧化在設(shè)置的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。微弧氧化電解液電解液抗污染能力強(qiáng)和再生重復(fù)使用率高，因而對環(huán)境污染小，區(qū)別于傳統(tǒng)的電鍍非常環(huán)保，也符合我國可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化工藝

微弧氧化的工藝參數(shù)

       微弧氧化的工藝參數(shù)是指加工件上的外加電壓，一般說終電壓決定微弧氧化膜的厚度，它是不斷升高而達(dá)到的，不能一次性加至終電壓。微弧氧化膜的基本特性是與待處理材料及其表面狀態(tài)有關(guān)的，也與槽液類型、電解質(zhì)溶液成、外加電壓、電流密度、槽液溫度和攪拌等因素有關(guān)。微弧氧化的合適放電區(qū)間較窄，要求對放電后的電參數(shù)控制比較好，大電流、高電壓對供電電源提出了高要求，由于對微弧氧化本質(zhì)認(rèn)識限制，使得電源的設(shè)計(jì)及制造仍停留在經(jīng)驗(yàn)摸索層面上，帶有很大的盲目性。其中特別是加在工件上的電壓與電流密度對于氧化膜的性能至關(guān)重要。微弧氧化過程中有一個(gè)很大的優(yōu)點(diǎn)就是外加電源突然中斷時(shí)可以直接繼續(xù)進(jìn)行氧化，不需要除去工件上的氧化膜，也不必更換樣品重新處理。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化技術(shù)

       為提高鋁材料的表面性能，常用的方法有電鍍，激光，陽極氧化等，其中微弧氧化技術(shù)是基于陽極氧化發(fā)展起來的一種先進(jìn)的表面強(qiáng)化處理技術(shù)。隨著電壓的遞增，逐步進(jìn)入火花放電階段，并通過瞬時(shí)高溫?zé)Y(jié)作用使氧化膜結(jié)構(gòu)發(fā)生變化，生成陶瓷膜層。微弧氧化是把工件放入溶液中施加高電壓進(jìn)行氧化。隨著電壓的遞增，逐步進(jìn)入火花放電階段，并通過瞬時(shí)高溫?zé)Y(jié)作用使氧化膜結(jié)構(gòu)發(fā)生變化，生成陶瓷膜層。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝