真空鍍膜機真空器件的常用檢漏方法

真空鍍膜機真空器件的常用檢漏方法 依據(jù)電真空器材的結(jié)構(gòu)特色及丈量精度要求，常用的有兩種檢漏辦法，即氦罩法和噴吹法（這兩種檢漏辦法具體介紹可見：氦罩法和噴吹法的氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏常見辦法）。檢漏時，先用氦罩法進行總漏率的測定，當總漏率超出答應值后再用噴吹法進行漏孔的認位。 氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達檢漏狀況后，用一個充溢氦氣的查驗罩，把被檢件全體或部分的表面面包圍起來，如圖4所示。查驗罩充氦時先將罩內(nèi)空氣排出再充氦，以確保罩內(nèi)氦濃度盡可能挨近100百分之，被檢件上任何地方有走漏。 檢漏儀都會有漏率值改變，顯示出漏率值。氦罩時刻也要繼續(xù)3~5倍檢漏儀呼應時刻。ASM192T2氦質(zhì)譜檢漏儀反應時刻小于0.5s,因而氦罩時刻30s即可。氦罩法可方便地測定被檢件總漏率，不會漏掉任何一處漏點，但不能確認漏孔方位。 噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連，對被檢件抽真空后用噴槍向漏孔處吹噴氦氣。當有漏孔存在時，氦氣就經(jīng)過漏孔進入質(zhì)譜儀被檢測出，噴吹法彌補了氦罩法不能定位的缺點。

實驗室中使用小型鍍膜設備

實驗室中使用小型鍍膜設備 我們在實驗室中使用的基本上都是小型的鍍膜設備，下面我們就來了解一下這種設備。 用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜機。蒸發(fā)鍍膜機主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設備四部分組成。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。 真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。 為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機構(gòu)或自轉(zhuǎn)加公轉(zhuǎn)的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運動方式。 排氣系統(tǒng)一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。

真空鍍膜機中鎢絲的用途

真空鍍膜機中鎢絲的用途： 鎢絲是真空鍍膜機中不可或缺的材料，下面為大家講一下這種材料的使用用途。 鎢絲除少量用作高溫爐的發(fā)熱材料、電子管的熱子和復合材料的加強筋等外，絕大部分都用于制作各種白鎢絲熾燈和鹵鎢燈的燈絲以及氣體放電燈的電極。對用作氣體放電燈陰極的鎢絲或鎢桿，為降低其電子逸出功，須加入0.5～3％的釷，稱為鎢釷絲。由于釷是一種性元素，污染環(huán)境，故有用來代替釷作成鎢絲或鎢桿的。但的蒸發(fā)率高，所以鎢絲或鎢桿只能用于小功率的氣體放電燈。