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真空鍍膜反光杯加工廠家優(yōu)選企業(yè)「多圖」

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-31 05:54  






佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家,公司秉承“以質(zhì)取勝,求真務(wù)實(shí),顧客至上”理念,歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響 :

靶功率;磁控濺射本身粒子初始動能比較小,離化率低,電源功率越大,濺射出的粒子的初始能量越大,靶材濺射量也越大,沉積速率越快,膜層容易上厚度和硬度,同時(shí)工件溫升也大,過高的功率會使沉積速率太快,粒子來不及表面遷移和擴(kuò)散,易形成陰影效應(yīng),膜層會比較疏松,應(yīng)力較大。目前已被廣泛應(yīng)用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領(lǐng)域。


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真空度:真空度是指處于真空狀態(tài)下氣體的稀薄程度,用壓強(qiáng)表示,壓強(qiáng)越低,其稀薄程度越大,真空度越高。鍍膜過程中,真空度主要通過控制ya氣流量來改變。

ya氣越少,靶材濺射量越少,但真空度越高,氣體分子自由程越大,散射越少,粒子碰撞幾率越小,粒子遷移過程中損失的動量越少,沉積速率越大

真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

真空蒸鍍是將沉積材料與工件同放在真空室中,然后加熱沉積材料使之迅速熔化蒸發(fā),當(dāng)蒸發(fā)原子與冷工件表面接觸后便在工件表面上凝結(jié)形成具有一定厚度的沉積層日。



磁控濺射:

原理:磁控濺射法被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中成熟的Zn0:A1薄膜制備方法,通常分為直流濺射(DC)和射頻濺射(IC)兩種。該方法是利用高能粒子轟擊靶材,使得靶材原子或分子被濺射出來并沉積到襯底表面的一種工藝。

優(yōu)點(diǎn):以濺射產(chǎn)率高、基片溫升低、薄膜基底結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定、操作控制方便等優(yōu)點(diǎn)受到青睞,磁控濺射法可獲得高度c軸取向,表面平整度高,可見光透過率較高及低電阻率Zn0:A1的薄膜。



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