平面研磨機(jī)受到越來(lái)越多青睞的五個(gè)理由

近的研磨行業(yè)發(fā)展勢(shì)頭迅猛，無(wú)論是加工企業(yè)還是生產(chǎn)平面研磨設(shè)備的企業(yè)，也相繼出市。在這里設(shè)備中，平面研磨機(jī)作為經(jīng)典設(shè)備，受到了越來(lái)越多的青睞。之所以有這個(gè)勢(shì)頭，原因有五：

1.需求大：

在平面工件、球形工件及異形工件中，平面工件相比來(lái)說(shuō)，其數(shù)量則打得到，因此，用以加工平面工件的平面研磨機(jī)的需要同樣大得多。大量的需求拉動(dòng)了整個(gè)研磨行業(yè)的發(fā)展。

2.加工易：

平面工件的加工，相比起其他研磨設(shè)備結(jié)構(gòu)相對(duì)簡(jiǎn)單，加工起來(lái)相對(duì)更容易。制作加工平面工件的平面研磨設(shè)備自然就多了。

3.產(chǎn)品及技術(shù)發(fā)展成熟。

工作原理是被磨、拋材料放于研磨盤(pán)上，研磨盤(pán)逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng)，修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓的方式對(duì)工件施壓，工件與研磨盤(pán)作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來(lái)達(dá)到研磨拋光目的。

4.技術(shù)先進(jìn)。

據(jù)上所述，平面研磨設(shè)備發(fā)展較早，因而其技術(shù)也相對(duì)更成熟。再加上包括方達(dá)在內(nèi)的研磨企業(yè)不斷開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品新工藝，其藍(lán)寶石研磨機(jī)技術(shù)已經(jīng)達(dá)到了國(guó)內(nèi)先進(jìn)水平，鏡面拋光機(jī)技術(shù)已經(jīng)接近國(guó)際水平。

5.人才多。

這個(gè)行業(yè)里人才多，拿目前業(yè)內(nèi)傳出iPhone 6的顯示屏采用藍(lán)寶石后，很快某些公司便研發(fā)出了新的系列藍(lán)寶石研磨機(jī)產(chǎn)品，據(jù)說(shuō)也一半的成本價(jià)代替了過(guò)去進(jìn)口的產(chǎn)品。

有了以上的五個(gè)理由做保障，平面研磨機(jī)的發(fā)展也自然蒸蒸日上，其經(jīng)典產(chǎn)品自然也能越發(fā)受到青睞

平面研磨機(jī)對(duì)工件進(jìn)行研磨拋光加工的步驟

1、利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過(guò)研具與工件在一定壓力下的相對(duì)運(yùn)動(dòng)對(duì)加工表面進(jìn)行的精整加工(見(jiàn)切削加工)、研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內(nèi)、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其它型面。加工精度可達(dá)IT5～01，表面粗糙度可達(dá)R 0.63～0.01微米。另一方面，如果敷料應(yīng)用過(guò)于頻繁，修整金剛石磨損和研磨盤(pán)磨損將造成巨大的成本。

2、研磨方法一般可分為濕研、干研和半干研 3類。

①濕研：又稱敷砂研磨，把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動(dòng)和滾動(dòng)，形成切削運(yùn)動(dòng)。

②濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。

③干研：又稱嵌砂研磨，把磨料均勻在壓嵌在研具表面層中,研磨時(shí)只須在研具表面涂以少量的硬脂酸混合脂等輔助材料。干研常用于精研磨，所用微粉磨料粒度細(xì)于W7。

④半干研：類似濕研，所用的研磨液是糊狀研磨膏。研磨既可用手工操作，也可在平面研磨機(jī)上進(jìn)行。工件在研磨前須先用其它加工方法獲得較高的預(yù)加工精度，所留研磨余量一般為5～30微米。

3、研具是使工件研磨成形的工具，同時(shí)又是研磨液的載體，硬度應(yīng)低于工件的硬度，又有一定的耐磨性，常用灰鑄鐵制成。濕研研具的金相組織以鐵素體為主；干研研具則以均勻細(xì)小的珠光體為基體。研磨M5以下的螺紋和形狀復(fù)雜的小型工件時(shí)，常用軟鋼研具。研磨小孔和軟金屬材料時(shí)，大多采用黃銅、紫銅研具。研具應(yīng)有足夠的剛度，其工作表面要有較高的幾何精度。系列研磨機(jī)采用PLC程控系統(tǒng)，變頻調(diào)速，觸摸屏操作面板，電機(jī)轉(zhuǎn)速與運(yùn)行時(shí)間可直接在觸摸屏上輸入。研具在研磨過(guò)程中也受到切削和磨損，如操作得當(dāng)，它的精度也可得到提高，使工件的加工精度能高于研具的原始精度。

4、正確處理平面研磨機(jī)進(jìn)行研磨的運(yùn)動(dòng)軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中，一般要求：

①工件相對(duì)研具的運(yùn)動(dòng)，要盡量保證工件上各點(diǎn)的研磨行程長(zhǎng)度相近；

②工件運(yùn)動(dòng)軌跡均勻地遍及整個(gè)研具表面，以利于研具均勻磨損；

③運(yùn)動(dòng)軌跡的曲率變化要小，以保證工件運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)；

④工件上任一點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡盡量避免過(guò)早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱，研磨一般在低壓低速條件下進(jìn)行。粗研的壓力不超過(guò) 0.3兆帕，精研壓力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般為20～120米/分，精研速度一般取10～30米/分。

5、互相配合的工件常采用配研方法。配研前，兩工件先需要經(jīng)過(guò)單件研磨，然后在兩工件配合表面間加入研磨液，兩工件互為研具，通過(guò)配研消除阻礙精密配合的微觀峰部，使配合表面相互吻合。