真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。在進(jìn)入鍍膜室之前，工件須在電鍍前仔細(xì)清洗。表面污染來(lái)源于加工、運(yùn)輸和包裝過(guò)程中粘附在工件上的各種灰塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物質(zhì)。為了避免加工過(guò)程中造成的缺陷，真空鍍膜廠家基本上可以通過(guò)脫脂或化學(xué)清洗的方式去除。

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場(chǎng)合非常豐富?？少x予塑料程亮的金屬外觀，合適的金屬源還可大大增加材料表面耐磨性能，大大拓寬了塑料的裝飾性和應(yīng)用范圍?？傮w來(lái)說(shuō)，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果?；瘜W(xué)氣相沉積技術(shù)

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。

真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。

雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發(fā)鍍膜 通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過(guò)程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn)：如對(duì)環(huán)境無(wú)污 染，是綠色環(huán)保工藝;對(duì)操作者無(wú)傷害。

真空鍍膜過(guò)程其工藝之多非常復(fù)雜，真空鍍膜加工原理有不同可分很多種類(lèi)，對(duì)于不同原理的真空鍍膜加工，影響均勻性的因素也不盡相同。真空鍍膜加工均勻性的概念：

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，真空鍍膜加工均勻性。

2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜加工的技術(shù)含量所在。

3.晶格有序度的均勻性