（1）成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學(xué)鍍膜溫度更高達(dá)1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì)，而真空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。（2）蒸發(fā)源選擇自由度大?？蛇x擇的鍍膜材料多而不受材料熔點(diǎn)限制，可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。（3）不使用有害氣體、液體，對環(huán)境無不利影響。在當(dāng)前越來越重視環(huán)保的大趨勢下，這點(diǎn)極其可貴。

PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)代zui先進(jìn)的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過“蒸發(fā)或?yàn)R射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。

PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為當(dāng)今zui先進(jìn)的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

熱鍍基板可以是熱軋也可以是冷軋基板，一些外貿(mào)詢單中會(huì)用HX或HC這種簡稱來代指熱軋基板或是冷軋基板。這是源自歐標(biāo)牌號(hào)的命名規(guī)則，當(dāng)然是不太規(guī)范的。

此外，在某些行業(yè)中，GI常被用來代指熱鍍純鋅鍍層、GA代指熱鍍鋅鐵鍍層、ZAM代指鋅鎂鍍層。

主流的熱鍍鍍層分為六大類，分別是：

1、熱鍍純鋅（Z）

2、熱鍍鋅鐵合金（ZF）

3、熱鍍鋅鋁（ZA）

4、熱鍍鋁鋅（AZ）

5、熱鍍鋁硅（AS）

6、熱鍍鋅鎂（ZM）