在ji小空間的電流密度極高，弧斑尺寸ji小，估計(jì)約為1μm～100μm，電流密度高達(dá)l05A／cm2～107A／cm2。每個(gè)弧斑存在極短時(shí)間，爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點(diǎn)處的鍍料，蒸發(fā)離化后的金屬離子，在陰極表面也會(huì)產(chǎn)生新的弧斑，許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失，所以又稱多弧蒸發(fā)。zui早設(shè)計(jì)的等離子體jia速器型多弧蒸發(fā)離化源，是在陰極背后配置磁場(chǎng)，使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)jia速xiao應(yīng)，有利于離子增大能量轟擊量體，采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜，離化率較高，所以又稱為電弧等離子體鍍膜。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

真空鍍真空鍍是電鍍的一種，是采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類型較少，一般用來(lái)作較gao檔產(chǎn)品的功能性鍍層·真空鍍根據(jù)方法不同可分為蒸發(fā)鍍和濺射鍍，離子鍍。蒸發(fā)鍍，其特點(diǎn)是在真空條件下，材料蒸發(fā)并在玻璃表面上凝結(jié)成膜，再經(jīng)高溫?zé)崽幚砗?，在玻璃表面形成附著力很?qiáng)的膜層。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

同時(shí)幾種涂層的硬度均高于HV3000，而且在高溫下可以有效的保持硬度，可以抵御高溫金屬液體對(duì)模具造成的應(yīng)力變形。有涂層公司針對(duì)此問(wèn)題研發(fā)了真空PVD鍍膜涂層前處理的新技術(shù)，結(jié)合其它表面技術(shù)和真空PVD鍍膜涂層復(fù)合作用，在改善液體金屬粘模和熱龜裂方面取得了一定的成績(jī)。例如HCVAC研發(fā)了一款設(shè)備可以在同時(shí)完成壓鑄模具的軟氮化 真空PVD鍍膜涂層，有效的解決了傳統(tǒng)涂層和氮化基體之間結(jié)合力差的問(wèn)題，進(jìn)一步提高了壓鑄模具的使用壽命。還有大多數(shù)公司則采用厚涂層的概念通過(guò)沉積足夠厚度的涂層來(lái)提高模具的使用壽命。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制