鍍膜技術在信息存儲領域中的應用

薄膜材料作為信息記錄于存儲介質，有其得天獨厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

物理氣相沉積（PVD）是一種真空鍍膜工藝，許多人知道常用于提高切削刀具的性能。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。但北京丹普表面技術有限公司的真空鍍膜機設備可以提供陰極電弧PVD涂層服務可提供更硬，更潤滑的產(chǎn)品，與未涂層工具相比，可將工具壽命提高10倍。耐磨表面。 此外，制造商越來越多地使用PVD涂層來區(qū)分其設備的外觀與類似產(chǎn)品和/或增強其設備的性能，因為硬質惰性涂層具有生物相容性，不會與骨骼發(fā)生反應，組織或體液。涂覆PVD涂層的的實例包括，鉆頭和針頭，以及用于各種裝置組件以及應用的“磨損”部件。

怎么保證真空鍍膜設備鍍膜效果與質量

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。真空鍍膜設備若有灰塵，將會影響真空鍍膜的效果和質量。首先，被鍍膜材料表面肯定是有灰塵的，在盡量減小材料表面灰塵的前提下，我們還應當注意以下幾點：

1、真空鍍膜設備使用一段時間后，必須要對設備進行清潔維護；

2、規(guī)范操作人員及操作要求，包括穿戴專業(yè)的服裝、手套、腳套等；

3、嚴格處理襯底材料，做到清潔干凈，合乎工藝要求；

真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。隨著全球制造業(yè)高速發(fā)展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。

  中國真空鍍膜機械行業(yè)，經(jīng)過了幾十年發(fā)展，形成了門類齊全、布局合理，品種配套，真空鍍膜技術水平與鍍膜工業(yè)發(fā)展基本適應的體系，真空鍍膜設備已經(jīng)不能再叫新行業(yè)了，其是一個有創(chuàng)新能力的成熟行業(yè)，鍍膜技術從重污染轉為輕污染直至以后的無污染，創(chuàng)新是前提，隨著更新型節(jié)能環(huán)保的真空機械設備研發(fā)必將改變整個工業(yè)。待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

主要分類有兩個大種類: 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。

真空電鍍設備膜厚的不均勻問題

無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。因此，選用現(xiàn)代化光學鍍膜系統(tǒng)的關鍵取決于對以下因素的認真考慮：對鍍膜產(chǎn)品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸發(fā)源的恰當選擇可以使這些影響化。

在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造廠家提供高性能的小規(guī)格、簡便型光學鍍膜系統(tǒng)，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化小化等方面。

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應用小規(guī)格設備進行光學鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉變成為純技術問題。從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。因此，選用現(xiàn)代化光學鍍膜系統(tǒng)的關鍵取決于對以下因素的認真考慮：對鍍膜產(chǎn)品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。