通常鏤空蝕刻細保留線 條在 0.3mm 左右，而我公司能生產(chǎn)出 0.1mm 左右的細線條。通常表 面蝕刻能達到 0.15mm 線條，而我公司能生產(chǎn)出 0.04mm 細線條。 所以叫做精細蝕刻。 精細蝕刻其工藝流程基本上與普通蝕刻一樣， 即： 基材清洗——印抗蝕油墨——烘干——曝光——顯影——蝕刻——去膜 ——電鍍 基本操作如下： 1.1 圖案與菲林制作 因為精細蝕刻的產(chǎn)品已進入藝術(shù)品的范疇，所以制圖時應(yīng)將造 型、布局、色彩，特別是光線反射等諸多藝術(shù)效果的因素與生產(chǎn)工藝 所允許的條件完好的結(jié)合起來。標(biāo)識設(shè)計良好與建筑室內(nèi)裝飾設(shè)計時期介入，以便同時考慮標(biāo)識與建筑風(fēng)格的協(xié)調(diào)，以及標(biāo)識安裝所需條件。

1.6 蝕刻

可用兩種方法進行蝕刻： A、電解法：電流 15－50A，電壓 3－5V，電解液：20%氯化銨、20%硫酸，陽極用鈦板。電解過程中及時去掉陽極上浮 留電解銅，以保證電流正常通過。 B、三氯化鐵法：選用較純的三氯化鐵泡成 30 波氏度溶液，流 動腐蝕。同一個版面要達到深淺不同效果，要在頭次達到淺度要求 后，清洗表面，烘干。在已達到淺度蝕刻處涂上（印上）普通耐蝕刻 油墨，再行二次蝕刻。 1.7 除膜 將已蝕刻完畢的銅板放在水、 30∶1∶0.1 溶液 中加溫至 70℃除膜、清洗出光。 1.8 電鍍 除膜后的銅板圖案已經(jīng)很亮，很細，無須再行鍍亮銅，可直接 進行鍍鎳 40－90 秒，再行鍍金、鍍銀。最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量(WeightReduction)儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工。

2.2 制好網(wǎng)印版 用 300 目滌綸絲網(wǎng)制版，性要好，殘膠要徹底沖凈且沒有眼與斷線。 2.3 選好網(wǎng)印油墨 選用耐酸、耐堿、耐溫、遮蓋力強的金屬網(wǎng)印墨，本公司選用 日本精工 1300＃油墨。 2.4 精細網(wǎng)印徹底烘干

選用硬度中偏低膠刮復(fù)墨網(wǎng)印，達到墨層厚而均勻，沒有斷線 與眼，印完一色烘一色（100℃，10 分鐘），后一次印完在烘 干 150℃，1.5 小時。 2.5 鍍前除油 （加溫至 60℃） 泡浸 5－10 秒除油， 烘干后要放在常溫除油劑中 然后清洗檢查無印處是否全部親水。未達要求，可用尼龍刷子刷洗， 達到親水為止。(三)制作工藝條件及具體操作1．除油脫脂不銹鋼板表面由于加工、運輸或儲存的原因，遺留有不同程度的油污，必須要徹底清除，否則會直接影響保護涂層與板材表面的結(jié)合力。

負載（Loading）-- 蝕刻速率依賴于可蝕刻表面數(shù)量，可在宏觀或微觀尺寸下。 縱橫比決定蝕刻（Aspect Ratio Dependent Etching/ARDE）--蝕刻速率決定于縱橫比。 終點（Endpoint）-- 在一個蝕刻過程中，平均膜厚被蝕刻干凈時的時間點。 光刻膠（Photo-resist）-- 作為掩膜用來圖形轉(zhuǎn)移的光敏材料。 分辨率（Resolution）-- 用于測試光學(xué)系統(tǒng)把相鄰的目標(biāo)形成分離圖像的能力。 焦深 (Depth of focus) – 在焦平面上目標(biāo)能形成影像的縱向距。 關(guān)鍵尺寸（Critical dimensi-CD）-- 一個特征圖形的尺寸，包括線寬、間隙、或者 關(guān)聯(lián)尺寸。但是,有一條最基本的原則已被公認并經(jīng)化學(xué)機理分析證實﹐就是盡速讓金屬表面不斷地接觸新鮮的蝕刻液。