什么是蝕刻標(biāo)牌？

蝕刻標(biāo)牌也叫腐蝕金屬標(biāo)牌。主要查采用掩膜、蝕刻后處理三步進(jìn)行加工制做而成的凸字金屬標(biāo)牌或凹字金屬標(biāo)牌。

標(biāo)識(shí)：可定義為在不同的時(shí)間和空間環(huán)境里，采取立、掛、吊、粘等安裝方式，有一定制作標(biāo)準(zhǔn)的質(zhì)地多樣的，通過(guò)文字圖形表達(dá)方位功能或信息功能的識(shí)別裝置。六、酸/堿體積比的檢驗(yàn)方法：開(kāi)機(jī)運(yùn)行到設(shè)定溫度后(約15~20分鐘),測(cè)試酸液及堿液的體積比,在規(guī)定范圍內(nèi)方可進(jìn)行生產(chǎn)。標(biāo)識(shí)蝕刻主要以標(biāo)示牌為主，表現(xiàn)形式也是各不相同，有的由于用于指示向?qū)В械挠糜诮煌ㄖ甘?，今天就和小編一起?lái)看看標(biāo)識(shí)蝕刻的世界吧。

蝕刻法，即通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)和蝕刻來(lái)加工金屬零件的一種工藝。5鍍前除油（加溫至60℃）泡浸5－10秒除油，烘干后要放在常溫除油劑中然后清洗檢查無(wú)印處是否全部親水。該工藝充分利用當(dāng)前先進(jìn)的計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)技術(shù)，將需要加工的圖形制成菲林，然后將菲林圖形通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)到金屬材料表面，在金屬材料表面形成被保護(hù)起來(lái)的金屬零件圖形，再通過(guò)蝕刻的方法，把未保護(hù)的金屬材料蝕掉就產(chǎn)生出了金屬零件。

蝕刻法與傳統(tǒng)的機(jī)械沖制方法相比，具有生產(chǎn)周期短（一般3天可以制造出產(chǎn)品），修改尺寸方便快捷的優(yōu)點(diǎn)。而機(jī)械沖制方法必須具備的沖制設(shè)備和模具加工設(shè)備，開(kāi)發(fā)周期要2至3個(gè)月。

由于蝕刻法的特殊性，零件的復(fù)雜程度與加工難易程度無(wú)關(guān)。蝕刻工藝對(duì)設(shè)備狀態(tài)的依賴(lài)性極大,故必需時(shí)刻使設(shè)備保持在良好的狀態(tài)。相對(duì)而言，機(jī)械沖制方法對(duì)復(fù)雜的零件處理起來(lái)往往會(huì)增加制造難度，有的甚至無(wú)法加工。蝕刻法制造僅需設(shè)計(jì)制作菲林（感光膠等），新品開(kāi)發(fā)費(fèi)用少；蝕刻法制造的金屬零件刺，不改變材料的磁特性，加工后的產(chǎn)品平整度不受絲毫改變。

標(biāo)牌蝕刻機(jī)有哪些?

一化學(xué)蝕刻機(jī)

1、如今市場(chǎng)上所見(jiàn)到的自動(dòng)型化學(xué)蝕刻機(jī)是通過(guò)高壓噴淋及被蝕刻板直線運(yùn)動(dòng)形成連續(xù)不間斷進(jìn)料狀態(tài)進(jìn)行對(duì)工件腐蝕以提高生產(chǎn)效率;

2、加大了噴淋與被蝕刻金屬板的有效面積和蝕刻均勻程度，無(wú)論在蝕刻效果、速度和改善操作者的環(huán)境及方便程度，都優(yōu)于潑濺式蝕刻;

3、經(jīng)反復(fù)實(shí)驗(yàn)噴射壓力在1-2Kg/cm2的情況下被蝕刻工件上所殘留的蝕刻圬漬能被有效清處掉，使蝕刻速度在傳統(tǒng)蝕刻法上大大提高，由于該蝕刻機(jī)液體可循環(huán)再生使用，此項(xiàng)可大大降低蝕刻成本，也可達(dá)到環(huán)保加工要求。

二電解蝕刻機(jī)

電蝕刻是利用金屬在以自來(lái)水或鹽水為蝕刻主體的液體中發(fā)生陽(yáng)極溶解的原理，(電解的作用下)將金屬進(jìn)行蝕刻，接通蝕刻電源，從而達(dá)到蝕刻的目的。市售的電解蝕刻機(jī)都是手動(dòng)噴淋式的，并且都是以鹽水為蝕刻溶液，功率有大小二種。

優(yōu)點(diǎn)：無(wú)污染，但只有蝕刻一個(gè)步驟無(wú)污染是不行的，其他工序也必須無(wú)污染，適合實(shí)驗(yàn)生產(chǎn)、凹字小面積蝕刻。主要用做研究實(shí)驗(yàn)機(jī)，或者簡(jiǎn)單的在金屬上蝕刻標(biāo)記，也稱(chēng)為電打標(biāo)。

缺點(diǎn)：蝕刻面不均勻，大面積腐蝕速度慢，不能用于量產(chǎn)，也不能做凸字大面積蝕刻，不能用做標(biāo)牌的大批量生產(chǎn)加工。1000瓦燈管5--8分鐘，或者2000瓦燈管3---4分鐘↓顯影。由于電解蝕刻是在金屬導(dǎo)電的情況下形成蝕刻的，那么我們的產(chǎn)品在蝕刻下去有任何的深度時(shí)側(cè)面也將被蝕刻的，這樣很多精細(xì)圖案，精細(xì)文字將被蝕刻”爛“掉。

因 為突沿容易撕裂下來(lái)﹐在導(dǎo)線的兩點(diǎn)之間形成電的拆接。 影響側(cè)蝕的因素有很多﹐下面將概述幾點(diǎn)﹕ 蝕刻方式﹕ 浸泡和鼓泡式蝕刻會(huì)造成較大的側(cè)蝕﹐潑濺和噴淋式蝕刻的側(cè)蝕較小﹐尤以噴淋蝕 刻的效果很好。將三氯化鐵溶液倒在細(xì)長(zhǎng)的量杯中，刺進(jìn)波美計(jì)，挨著液面的數(shù)值就是它的波美濃度。 蝕刻液的種類(lèi)﹕ 不同的蝕刻液, 其化學(xué)組分不相同﹐蝕刻速率就不一樣﹐蝕刻系數(shù)也不一樣。 例如﹕酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為 3﹐而堿性氯化銅蝕刻系數(shù)可達(dá)到 4。 蝕刻速率﹕ 蝕刻速率慢會(huì)造成嚴(yán)重側(cè)蝕。 提高蝕刻質(zhì)量與加快蝕刻速率有很大的關(guān)系, 蝕刻速 度越快, 基板在蝕刻中停留的時(shí)間越短﹐側(cè)蝕量將越小﹐蝕刻出的圖形會(huì)更清晰整 齊。

光刻和蝕刻技術(shù)，用光膠、掩膜、和紫外光進(jìn)行微制造，由薄膜沉積，光刻和蝕刻 三個(gè)工序組成。 ? 光刻前首先要在基片表面覆蓋一層薄膜，薄膜的厚度為數(shù)埃到幾十微米，稱(chēng)為薄膜 沉積。提高基板與基板之間蝕刻速率的一致性在連續(xù)的板蝕刻中﹐蝕刻速率的一致性越高﹐越能獲得蝕刻均勻的板。然后在薄膜表面用甩膠機(jī)均勻地覆蓋上一層光膠，將掩膜上微流控芯片設(shè)計(jì) 圖案通過(guò)曝光成像的原理轉(zhuǎn)移到光膠層的工藝過(guò)程稱(chēng)為光刻。 ? 光刻的質(zhì)量則取決于光抗蝕劑（有正負(fù)之分）和光刻掩膜版的質(zhì)量。掩膜的基本功 能是基片受到光束照射（如紫外光）時(shí)，在圖形區(qū)和非圖形區(qū)產(chǎn)生不同的光吸收和 透過(guò)能力。