300C有機(jī)無機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)

主要用途： 　　

用于制備導(dǎo)電薄膜，半導(dǎo)體薄膜，鐵電薄膜，光學(xué)薄膜等。 　　

系統(tǒng)組成: 　　

該蒸鍍?cè)O(shè)計(jì)系統(tǒng)主要由真空抽氣及真空測(cè)量系統(tǒng)、真空室系統(tǒng)、工件架系統(tǒng)、蒸發(fā)源系統(tǒng)、膜厚測(cè)試系統(tǒng)、蒸發(fā)舟擋板系統(tǒng)、烘烤照明系統(tǒng)、水冷卻循環(huán)及報(bào)警系統(tǒng)、電控及控制系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)等設(shè)計(jì)。 　　

技術(shù)指標(biāo)： 　　

極限真空度：≤6.7×10 Pa 　　

恢復(fù)真空時(shí)間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 　　

系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 　　

真空室：Ф400 x400mm圓筒型真空室 ， 　　

蒸發(fā)源：1-4個(gè)，采用電阻蒸發(fā)舟、蒸發(fā)藍(lán)、絞絲、束源爐至下向上蒸發(fā)鍍膜。 　

蒸發(fā)溫度：加熱溫度：室溫～1800℃； 　　

蒸發(fā)舟在距中心100～160mm的圓周上；蒸發(fā)舟可上下升降，調(diào)節(jié)幅度0～150mm（樣品中心與坩堝距離150~300mm）； 　

工作架類型及尺寸：樣品托盤直徑Φ300mm，其上可放多個(gè)直徑20mm的小樣品；樣品托盤具有自轉(zhuǎn)功能，轉(zhuǎn)速在0～20 轉(zhuǎn)/分鐘，轉(zhuǎn)速可調(diào)；樣品托盤可擺角，角度在0～30度可調(diào)； 　　

烘烤溫度：400℃數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫（高溫爐盤，數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫可加熱到700℃） 　　

電阻蒸發(fā)源：電壓5V，10V，功率2.5KW，水冷電極1~4對(duì) 　　

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測(cè)量范圍0-999999?

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