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ZF450型全自動(dòng)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)電阻器熱蒸發(fā)鍍膜供貨商,我們?yōu)槟峁┫铝行畔?nèi)容。
選用3~8組蒸發(fā)源可適配金屬材料、有機(jī)化合物蒸發(fā)。因其具有背景干擾低的特點(diǎn),可用來進(jìn)行納克(ng)級(jí)分析,故而成為業(yè)界定性定量分析的必選儀器。廣泛運(yùn)用于高等院校材料、物理學(xué)、有機(jī)化學(xué)、電子器件、電力能源等有關(guān)課程及其科研單位制取高品質(zhì)作用塑料薄膜、蒸鍍電級(jí)等,非常合適OPV/鈣鈦礦/無機(jī)物太陽能薄膜充電電池、半導(dǎo)體材料、有機(jī)化學(xué)EL、OLED顯示信息科學(xué)研究與開發(fā)設(shè)計(jì)行業(yè)。
1.前開關(guān)門真空內(nèi)腔,便捷拿取基片、拆換蒸發(fā)舟、加上蒸發(fā)材料及其真空室的平時(shí)維護(hù)保養(yǎng);
2.1200L/s分子泵做為主抽泵,真空限達(dá)到5×10-5Pa;
另可選擇進(jìn)口磁懸浮分子泵或是低溫泵做為主抽泵,真空限達(dá)到 3×10-6Pa;
3. 組水冷器蒸發(fā)電級(jí),可長期平穩(wěn)工作中,適配金屬材料材料與有機(jī)化學(xué)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì)方案,
源間有避免交叉式環(huán)境污染擋板;
4. 真空蒸發(fā)開關(guān)電源,恒流電源/恒輸出功率操縱。可保持一鍵啟動(dòng)和終止的自動(dòng)控制系統(tǒng)作用;
5.較大120mm基片/15~25mm ITO/FTO夾層玻璃25片,可訂制一體化高精密刻蝕掩膜板;
6.基片臺(tái)自轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速比0~25rpm持續(xù)可調(diào)式;
7. 襯底可挑選加溫或水冷散熱,源基距較大350mm;
8. 選用進(jìn)口膜厚監(jiān)控器儀在線監(jiān)控和操縱蒸發(fā)速度、膜厚;
9. 可堆積金屬材料(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬材料、化學(xué)物質(zhì)(MoO3, LiF等)
及有機(jī)化合物材料, 可擴(kuò)展堆積單面膜、雙層膜及混和膜;
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300C有機(jī)無機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)
主要用途:
用于制備導(dǎo)電薄膜,半導(dǎo)體薄膜,鐵電薄膜,光學(xué)薄膜等。
系統(tǒng)組成:
該蒸鍍設(shè)計(jì)系統(tǒng)主要由真空抽氣及真空測量系統(tǒng)、真空室系統(tǒng)、工件架系統(tǒng)、蒸發(fā)源系統(tǒng)、膜厚測試系統(tǒng)、蒸發(fā)舟擋板系統(tǒng)、烘烤照明系統(tǒng)、水冷卻循環(huán)及報(bào)警系統(tǒng)、電控及控制系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)等設(shè)計(jì)。
技術(shù)指標(biāo):
極限真空度:≤6.7×10 Pa
恢復(fù)真空時(shí)間:從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系統(tǒng)漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;
真空室:Ф400 x400mm圓筒型真空室 ,
蒸發(fā)源:1-4個(gè),采用電阻蒸發(fā)舟、蒸發(fā)藍(lán)、絞絲、束源爐至下向上蒸發(fā)鍍膜。
蒸發(fā)溫度:加熱溫度:室溫~1800℃;
蒸發(fā)舟在距中心100~160mm的圓周上;蒸發(fā)舟可上下升降,調(diào)節(jié)幅度0~150mm(樣品中心與坩堝距離150~300mm);
工作架類型及尺寸:樣品托盤直徑Φ300mm,其上可放多個(gè)直徑20mm的小樣品;樣品托盤具有自轉(zhuǎn)功能,轉(zhuǎn)速在0~20 轉(zhuǎn)/分鐘,轉(zhuǎn)速可調(diào);樣品托盤可擺角,角度在0~30度可調(diào);
烘烤溫度:400℃數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫(高溫爐盤,數(shù)顯自動(dòng)熱偶控溫可加熱到700℃)
電阻蒸發(fā)源:電壓5V,10V,功率2.5KW,水冷電極1~4對(duì)
石英晶振膜厚控制儀:膜厚測量范圍0-999999?
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