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脈沖激光沉積的優(yōu)點
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1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜,即具有良好的保成分性;
2. 沉積速率高,試驗周期短,襯底溫度要求低,制備的薄膜均勻;
3. 工藝參數(shù)任意調節(jié),對靶材的種類沒有限制;
4. 發(fā)展?jié)摿薮螅哂袠O大的兼容性;
5. 便于清潔處理,可以制備多種薄膜材料。
脈沖激光沉積的應用領域
沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產、銷售脈沖激光沉積,以下信息由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供。
脈沖激光沉積技術適合做的薄膜包括各種多元氧化物,氮化物,硫化物薄膜,金屬薄膜,磁性材料等。
應用領域:
單晶薄膜外延(SrTiO3,LaAlO3)
壓電薄膜(PZT,AlN,BiFeO3,BaTiO3)
鐵電薄膜(BaTiO3,KH2PO4)
熱電薄膜(SrTiO3)
金屬和化合物薄膜電極(Ti,Ag,Au,Pt,Ni,Co,SrRuO3,LaNiO3,YZrO2,GdCeO2,LaSrCoFeO3)
半導體薄膜(Zn(Mg)O,AlN,SrTiO3)
高K介質薄膜(HfO2,CeO2,Al2O3,BaTiO3,SrTiO3,PbZrTiO3,LaAlO3,Ta2O5)
超導薄膜(YBa2CuO7-x,BiSrCaCuO)
光波導,光學薄膜(PZT,AlN,BaTiO3,Al2O3,ZrO2,TiO2)
超疏水薄膜(PTFE)
紅外探測薄膜(V2O5,PZT)
脈沖激光沉積選件介紹
沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業(yè)生產、銷售脈沖激光沉積,我們公司堅持用戶為上帝,想用戶之所想,急用戶之所急,以誠為本,講求信譽,以產品求發(fā)展,以質量求生存,我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。
連續(xù)組成擴展(CCS )
常規(guī)沉積條件下的組合合成
組合合成是一種基于脈沖激光沉積的、組合材料合成的新型連續(xù)組成擴展(CCS) 方法。PLD-CCS 系統(tǒng)能以連續(xù)的方式改變材料,沒有必要使用掩模??芍苽涞谋∧ぐǖ?、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料??梢栽诿恳淮窝h(huán)中,以小于一個單分子層的速率,快速連續(xù)沉積每一種組份,其結果是基本等同于共沉積法。該法無需在沉積后進行退火促進內部擴散或結晶,對于生長溫度是關鍵參數(shù)的研究或者被沉積的材料或基片不適合高溫退火的情況是有用的。