高溫束源爐的特點

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溫度控制和均勻的基于SCR 功率輸出電源實現(xiàn)準確的沉積速率控制，并確保高質量的，均勻的膜。

◆ 使用PID 控制器進行溫度控制，控制在±1℃

◆ 自動調節(jié)模式

◆ 可調節(jié)報警條件

◆ 速率控制輸入與沉積控制相兼容

加熱樣品臺的設計原理

設計原理為：將樣品槽設置在中空腔中，中空腔中通入熱空氣對樣品槽進行加熱，從而對樣品進行傳熱加熱，而隨著熱空氣裝置不斷向中空腔中通入空氣，中空腔中的壓力會增大，從而通過泄壓口向氣管排氣，排出的氣體會通過氣管到達多孔頭，從而對樣品容器通入熱空氣，一方面熱空氣對樣品容器中的樣品進行加熱，另一方面還能起到空氣攪拌的作用。濺射靶材的種類濺射靶材的種類較多,即使相同材質的濺射靶材也有不同的規(guī)格。

熱空氣裝置包括空壓機、加熱箱和管道，空壓機通過所述管道與所述加熱箱連通，加熱箱通過管道與所述中空腔連通，空壓機產(chǎn)生的空氣通過管道進入到加熱箱中進行加熱，并經(jīng)管道通入到中空腔中。

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靶材鍍膜工藝介紹

用于建筑玻璃的鍍膜玻璃-般都鍍薄膜。 我們把厚度低于1um的膜層叫薄膜，厚度高于1um的膜叫厚膜鍍膜工藝是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法。鍍膜的方法很多,真空蒸發(fā)、真空濺射、化學還原、溶膠凝膠法等。(2)當膜層材料為貴重金屬時，靶的結構決定著靶材(形成薄膜的材料)，即該貴重金屬的利用率。它要求膜層要有非常強的附著力,附著力不強的叫覆蓋。要獲得強附著力,就必須將玻璃表面清潔干凈。

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濺射靶材的作用是什么？

濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子 ,在真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售水冷銅電極，以下信息由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。