小型磁控濺射儀的優(yōu)勢

設(shè)備主要優(yōu)勢    

實用性：設(shè)備集成度高，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，可以滿足客戶實驗室空間不足的苛刻條件；通過更換設(shè)備上下法蘭可以實現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換，實現(xiàn)一機(jī)多用；

方便性：設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調(diào)試簡單，既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔；

高性價比：設(shè)備主要零部件采用進(jìn)口或國內(nèi)品牌，以國產(chǎn)設(shè)備的價格擁有進(jìn)口設(shè)備的配置，從而保證了設(shè)備的質(zhì)量及性能；

安全性：獨立開發(fā)的PLC 觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎(chǔ)上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能，保證了設(shè)備的使用安全性能；

期望大家在選購磁控濺射產(chǎn)品時多一份細(xì)心，少一份浮躁，不要錯過細(xì)節(jié)疑問。想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)資訊，歡迎撥打圖片上的熱線電話?。?！

什么是磁控濺射？

磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點。上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運動路徑，改變電子的運動方向，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

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自動磁控濺射系鍍膜機(jī)介紹

以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。

自動磁控濺射系統(tǒng)選配項：

RF、DC濺射

熱蒸鍍能力

RF或DC偏壓（1000V）

樣品臺可加熱到700°C

膜厚監(jiān)測儀

基片的RF射頻等離子清洗

應(yīng)用：

晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆

光學(xué)以及ITO涂覆

帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆

帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射