等離子拋光作為一種新的拋光工藝,是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢(shì)。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時(shí)間和成本。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面在化學(xué)物質(zhì)。

等離子拋光為客戶減輕環(huán)保壓力。輝碟自動(dòng)化所使用的拋光溶液非常環(huán)保，其廢液可以直接排放而不會(huì)造成污染，也可以稍作處理回收利用。

等離子拋光和電解拋光的適用行業(yè)廣范：手機(jī)電子、數(shù)碼配件、集成電路制造、運(yùn)動(dòng)器材（高爾夫球具）、眼鏡制造、不銹鋼潔具、餐具、//器械、手表飾品、汽車(chē)配件、LED制程、精密模具、航空航天及五金制品等行業(yè)等離子拋光工藝可以說(shuō)是目前市場(chǎng)上為先進(jìn)的拋光工藝。

同電解既有相似之處也有本質(zhì)的區(qū)別。說(shuō)他們相似是說(shuō)他們的拋光后的表面效果差不多。說(shuō)他的本質(zhì)區(qū)別主要是等離子拋光成本低和對(duì)環(huán)境無(wú)污染，而電解則相反。

等離子拋光的工藝操作簡(jiǎn)單：上掛——電拋——水洗——水洗——中和——水洗——噴淋——超聲波——烤干——下掛——包裝(或進(jìn)行后其它后工藝：如真空鍍膜及鍍膜，噴涂等)
等離子拋光由于是靠電離子的摩擦作用，由于離子幾乎沒(méi)質(zhì)量。所以摩擦力有限，對(duì)表面的摩擦作用一般是去掉1-2個(gè)絲。很明顯對(duì)沖壓印跡和表面橘皮無(wú)法去掉。采用手工拋光和等離子拋光相結(jié)合的辦法。即采用手工開(kāi)初去掉表面壓印和橘皮。留下很深的麻輪紋路采用很細(xì)的線輪紋路去除。