但電鍍用塑膠材料的選擇卻要綜合考慮材料的加工性能、機(jī)械性能、材料成本、電鍍成本、電鍍的難易程度以及尺寸精度等因素。塑膠電鍍的麻點(diǎn)來(lái)源比較復(fù)雜。麻點(diǎn)的另一個(gè)原因是溶液中的固體顆粒。因而對(duì)過(guò)濾越來(lái)越重視，更多的前處理溶液應(yīng)要求過(guò)濾，過(guò)濾機(jī)的每小時(shí)循環(huán)次數(shù)越來(lái)越多。同時(shí)清洗水質(zhì)要求越來(lái)越高，更多地用純水，以防硬水帶來(lái)的固體顆粒。車間也應(yīng)重視防塵。但是，沒(méi)有一種辦法有立桿見(jiàn)影的效果，因而辦法在不斷變化中。麻點(diǎn)還是一個(gè)難題。

真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊亞氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場(chǎng)特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。但旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場(chǎng)靜止靶源。

真空鍍膜涂料是真空鍍膜技術(shù)不可或缺的重要材料之一。它既可以做底漆，又可以做面漆。作為底漆，它可以提高光亮度和鏡面反射效果，起到提高鋁膜和底材的附著力以及封閉底材等作用，為了提高底漆良率，改善塑料產(chǎn)品的注塑工藝不良（脫模劑影響、結(jié)合線、水口頂針位氣紋等）一般在底漆前做一道油污處理劑，可以達(dá)到改善附著力、提高鋁膜光澤。作為面漆，它可以提高鍍膜層的耐磨性、耐腐蝕性和耐候性等，還可以使鍍膜層著色，使鍍件反射出五光十色的金屬光澤?？梢哉f(shuō)，沒(méi)有真空鍍膜涂料，真空鍍膜技術(shù)就不可能得到發(fā)展。

化學(xué)鍍與電鍍從原理上的區(qū)別就是電鍍需要外加的電流和陽(yáng)極，而化學(xué)鍍是依靠在金屬表面所發(fā)生的自催化反應(yīng)。

化學(xué)鍍鎳層是極為均勻的，只要鍍液能浸泡得到，溶質(zhì)交換充分，鍍層就會(huì)非常均勻，幾乎可以達(dá)到仿形的效果。

化學(xué)鍍鎳技術(shù)是采用金屬鹽和還原劑,在材料表面上發(fā)生自催化反應(yīng)獲得鍍層的方法。到目前為止，化學(xué)鍍鎳是國(guó)外發(fā)展較快的表面處理工藝之一，且應(yīng)用范圍也比較廣。化學(xué)鍍鎳之所以得到迅速發(fā)展，是由于其優(yōu)越的工藝特點(diǎn)所決定。