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真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電子交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)
行,從而增大電子撞擊亞氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
在近幾十年的發(fā)展中,大家逐漸采用長(zhǎng)久磁鐵,很少用線圈磁鐵。
靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源鍍膜均勻,非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜,非平衡多用于磨損裝飾膜。
由于新技術(shù)和鋁模板,特別是,以設(shè)計(jì)注射模具的發(fā)展,鋁模具用于吹塑成型越來越普遍,藝術(shù)R.I.M.模,橡膠模,結(jié)構(gòu)發(fā)泡成型和R.T.M.模具。電鍍利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程,是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化(如銹蝕),提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等)及增進(jìn)美觀等作用。