真空腔體

真空技術(shù)主要包括真空獲得、真空測(cè)量、真空檢漏和真空應(yīng)用四個(gè)方面.在真空技術(shù)發(fā)展中,這四個(gè)方面的技術(shù)是相互促進(jìn)的.

隨著真空獲得技術(shù)的發(fā)展,真空應(yīng)用日漸擴(kuò)大到工業(yè)和科學(xué)研究的各個(gè)方面.真空應(yīng)用是指利用稀薄氣體的物理環(huán)境完成某些特定任務(wù).有些是利用這種環(huán)境制造產(chǎn)品或設(shè)備,如燈泡、電子管和等. 這些產(chǎn)品在使用期間始終保持真空,而另一些則只是把真空當(dāng)作生產(chǎn)中的一個(gè)步驟,產(chǎn)品在大氣環(huán)境下使用,如真空鍍膜、真空干燥和真空浸漬等.

真空的應(yīng)用范圍極廣,主要分為低真空、中真空、高真空和超高真空應(yīng)用.

真空腔體加工檢漏的辦法

一、真空封泥檢測(cè)法

用真空泥封住的漏點(diǎn)，此時(shí)要注意觀察真空度的改變，假如貼上真空泥之后真空度上升較快，拿掉之后又有了顯著的下降，這說明就是一個(gè)漏點(diǎn)哦。然而，這個(gè)辦法在實(shí)際檢測(cè)頂用的比較少

二、真空計(jì)檢漏法

部分真空計(jì)的讀數(shù)與氣體種類有關(guān)，例如電離真空計(jì)，熱偶計(jì)。裝載鎖定室是建在主腔體上的小腔體，可在不破壞主腔體真空度的條件下，將樣本、晶片或其他組件從外部大氣環(huán)境移動(dòng)到內(nèi)部高真空環(huán)境中。用合適的氣體或許液體做示漏物質(zhì)，這些真空計(jì)就成了探測(cè)器，一般鍍膜機(jī)上都會(huì)有真空計(jì)，在實(shí)際使用中也是比較常用的檢漏辦法。熱偶計(jì)的示漏物質(zhì)有二氧化碳，丁烷，酒精等，熱偶計(jì)的反響比較慢，要仔細(xì)觀察。用于電離計(jì)的示漏物質(zhì)主要有氦，，酒精等。

半導(dǎo)體真空腔體制造技術(shù) 

真空腔體在薄膜涂層、微電子、光學(xué)器件和材料制造中，是一種能適應(yīng)高真空環(huán)境的特殊容器。真空腔體通常包括一系列部品——如鐘形罩、基板、傳動(dòng)軸以及輔助井——這些構(gòu)成一個(gè)完整的真空腔體。

復(fù)雜的真空腔體通常需要定制，即針對(duì)應(yīng)用終端進(jìn)行專門的設(shè)計(jì)和制作。為了更準(zhǔn)確地丈量真空度，中止烘烤后也應(yīng)該對(duì)真空計(jì)進(jìn)行除氣處理。某些常見的真空腔體已經(jīng)過預(yù)先設(shè)計(jì)，如手套箱、焊接室、脫氣箱、表面分析真空腔等。例如脫氣箱和手套箱一般采用低真空環(huán)境，可用于焊接，或用于塑料制品、復(fù)合材料層壓板、封裝組件等的脫氣。

真空設(shè)備包含很多組件，如真空腔體，真空密封傳導(dǎo)件，視口設(shè)置，真空傳感器，真空顯示表，沉積系統(tǒng)，蒸發(fā)源和蒸發(fā)材料，濺鍍靶材，等離子刻蝕設(shè)備，離子注入設(shè)備，真空爐，專用真空泵，法蘭，閥門和管件等。近年來，為了下降真空腔體的制造成本，選用鑄造鋁合金來制造腔體也逐步普及。真空設(shè)備常用于脫氣，焊接，制備薄膜涂層，生產(chǎn)半導(dǎo)體/晶圓、光學(xué)器件以及特殊材料等。