ZF500有機蒸發(fā)鍍膜機

廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等，半導(dǎo)體、有機EL、OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺、 真空抽氣及測量、膜厚測試 、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標：

極限真空度4×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時間：40分鐘可達6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

樣品臺：尺寸為4英寸4平面樣品；

有機束源爐：數(shù)量：4支，標準型600度控溫；

樣品架：安裝加熱爐。基片的溫度從室溫至600℃（硅片上表面的溫度，只需標定一次即可）

4套擋板系統(tǒng)：動密封手動控制；

樣品擋板（１套），磁力撥叉，

膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

以上就是關(guān)于電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話或關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司！