真空鍍膜機(jī)的市場(chǎng)用途

很多消費(fèi)者對(duì)真空鍍膜機(jī)的概念不是很了解，不知道真空鍍膜機(jī)的市場(chǎng)用途，其實(shí)真空鍍膜機(jī)的衍生品有很多，而且都是與消費(fèi)者息息相關(guān)，求購鍍膜機(jī)的朋友一般從事如下行業(yè)：一類是以裝飾為主，突出其裝飾功能，常用在塑膠玩具禮品包裝的鍍膜，手機(jī)外殼，數(shù)碼產(chǎn)品外殼，視窗，瓷磚鍍金等。

另一類是以功能為主，突出鍍膜的功能用途。會(huì)被如下行業(yè)使用：太陽能集熱管、眼鏡和鏡片的增透高反，手機(jī)殼的防輻射屏蔽、刀具的加硬、模具加硬等。

以上兩類行業(yè)都與真空鍍膜機(jī)有密切關(guān)系，所以在生活中，真空鍍膜機(jī)是十分重要的。

真空卷繞鍍膜機(jī)

的卷繞系統(tǒng)采用四電機(jī)驅(qū)動(dòng)，恒張力控制，可實(shí)現(xiàn)距離卷繞和接觸卷繞兩種卷繞方式。提供了多種不同的卷繞方式，以適用于所鍍制的薄膜種類和工藝要求。在卷繞系統(tǒng)中設(shè)置了適用于CPP、PET、OPP等多種塑料薄膜特殊的展平裝置，能達(dá)到無褶皺、無劃傷、無邊緣積聚的優(yōu)良蒸鍍和收卷質(zhì)量。強(qiáng)勁實(shí)用的抽真空系統(tǒng)相對(duì)獨(dú)立的卷繞室和蒸發(fā)室，每一個(gè)室都有一套獨(dú)立的真空泵組與其對(duì)應(yīng)。能在很短的時(shí)間內(nèi)達(dá)到鍍膜所需的工作真空度，使設(shè)備的生產(chǎn)率得到很大地提高。蒸發(fā)源系統(tǒng)通過嚴(yán)密的計(jì)算采取恰當(dāng)?shù)恼舭l(fā)距離和舟間距，采取交錯(cuò)安裝的排布形式，使用兩端頂持的舟安裝方式保證了良好的蒸鍍均勻性的成膜質(zhì)量?？梢允褂闷胀ㄕ舭l(fā)速率的陶瓷蒸發(fā)舟，也可以使用高蒸發(fā)率的蒸發(fā)舟。其功率可達(dá)14KVA，蒸發(fā)速率可達(dá)9克/分鐘。冷卻加熱系統(tǒng)：蒸鍍輥配制有獨(dú)立的冷卻加熱系統(tǒng)，采用特殊的油導(dǎo)熱介質(zhì)，能有效的冷卻蒸鍍輥，防止薄膜熱損傷。等離子預(yù)處理裝置：在鍍前對(duì)薄膜表面進(jìn)行離子轟擊處理，除去薄膜表面吸附的水氣及雜質(zhì)，提高附著力，改善鍍膜質(zhì)量。簡(jiǎn)單便捷的控制系統(tǒng)：便捷的全自動(dòng)控制系統(tǒng)和友好的操作界面，可根據(jù)需要分別采用手動(dòng)、半自動(dòng)以及自動(dòng)方式。

鍍膜技術(shù)發(fā)展需要解決哪些問題?

鍍膜技術(shù)發(fā)展需要解決哪些問題？ 鍍膜技術(shù)發(fā)展需要解決哪些問題？有專業(yè)業(yè)界人士認(rèn)為，流行的鍍膜方式主要集中在真空鍍膜，像原始的鍍膜手段和方式的機(jī)會(huì)不大，對(duì)此就鍍膜技術(shù)來說，從現(xiàn)代環(huán)保節(jié)能要求看，化學(xué)鍍膜手段的確遇到挑戰(zhàn)，現(xiàn)在物流環(huán)保的真空鍍膜技術(shù)已獲得非常大的發(fā)展，現(xiàn)代鍍膜廠的轉(zhuǎn)型便是證明。 事實(shí)上，在化學(xué)鍍時(shí)代，鍍膜發(fā)展已經(jīng)陷入重污染的困境，很多一線城市禁止高污染企業(yè)單位進(jìn)駐，一方面，加快環(huán)保鍍膜技術(shù)的研究有效解決問題，另一方面，剛出現(xiàn)的環(huán)保鍍膜技術(shù)也存在一些問題，在鍍膜技術(shù)快速發(fā)展的情況下，各家有實(shí)力的廠家都在積極的研發(fā)和探索。 不可否認(rèn)，鍍膜設(shè)備廠家一定要確實(shí)根據(jù)市場(chǎng)需求和社會(huì)環(huán)境要求來深度優(yōu)化產(chǎn)品，這樣才可市場(chǎng)占據(jù)有利地位。

高頻磁控濺射設(shè)備有什么特點(diǎn)

高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氣體和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕?。?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。 磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易,而實(shí)際操作困難。主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國(guó)萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個(gè)問題。其原理是一對(duì)靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是一切源（磁控，多弧，離子）所必需，因?yàn)槟芰亢艽笠徊糠洲D(zhuǎn)為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達(dá)一千度以上從而溶化整個(gè)靶源。