PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍（水電鍍）的異同：PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。PVD鍍膜技術(shù)目前主要應(yīng)用的行業(yè)：PVD鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。

②氮碳化鈦涂層（TiCN）：TiCN涂層是在TiN的基礎(chǔ)上添加碳元素，以提高涂層的硬度和低的摩擦系數(shù)用途：高速gang刀具，沖壓模具，成型模具。③氮鋁鈦（TiAlN）、氮鈦鋁AlTiN：俗稱：中鋁（Al:Ti=50:50）、高鋁（Al:Ti=67：33）以上，TiAlN/AlTiN涂層在加工過程中形成的氧化鋁涂層可以有效提高加工工具的高溫加工壽命，AlTiN涂層的抗高溫氧化比TiAlN要高100度左右。用途：硬質(zhì)合金工具（加工材料硬度低于HRC45時(shí)建議用TiAlN,加工材料硬度高于HRC45時(shí)建議使用AlTiN涂層），薄壁件沖壓模具(TiAlN)，壓鑄模具（AlTiN）。

主要工藝：目前，物理氣相沉積（PVD）技術(shù)主要包括真空陰極弧物理蒸發(fā)、真空磁控離子濺射、離子鍍以及增強(qiáng)濺射四種。①陰極弧物理蒸發(fā)（ARC）：真空陰極弧物理蒸發(fā)過程包括將高電流，低電壓的電弧激發(fā)于靶材之上，并產(chǎn)生持續(xù)的金屬離子。被離化的金屬離子以60-100eV平均能量蒸發(fā)出來形成高度激發(fā)的離子束，在含有惰性氣體或反應(yīng)氣體的真空環(huán)境下沉積在被鍍工件表面。真空陰極弧物理蒸發(fā)靶材的離化率在90%左右，所以與真空磁控離子濺射相比，沉積薄膜具有更高的硬度和更好的結(jié)合力。