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氦檢漏儀生產(chǎn)廠家滿意的選擇 科儀創(chuàng)新真空公司

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-12 10:01  






氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置

科儀創(chuàng)新產(chǎn)品主要有:薄膜制備設(shè)備,真空冶金設(shè)備,檢漏設(shè)備,真空系統(tǒng)等非標(biāo)真空產(chǎn)品;系列分子泵,離子泵,鈦升華泵,深冷捕集泵等高真空獲得設(shè)備;系列干式渦旋泵,干式爪泵,干式螺桿泵等無(wú)油真空獲得設(shè)備;超高真空環(huán)境模擬設(shè)備等高新技術(shù)產(chǎn)品。今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置有哪些,希望對(duì)您有所幫助!檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍,該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間,即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間,當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。

1. 檢漏儀專用分子泵

2. 機(jī)械泵或者干泵

3. 定制檢漏儀專用電磁閥

4. 內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)漏口

5. 放大器

6. 采用質(zhì)譜專用模塊

以上是科儀創(chuàng)新為您一起分享的內(nèi)容,科儀創(chuàng)新專業(yè)生產(chǎn)氦檢漏,歡迎新老客戶蒞臨。





氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇

今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來(lái)分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體有哪些要求,希望對(duì)您有所幫助!

(1)無(wú)害,不能對(duì)人體或環(huán)境造成傷害;

(2)質(zhì)量輕,惰性氣體,穿透能力強(qiáng),能穿透微小細(xì)縫;

(3)化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,不會(huì)引起化學(xué)反應(yīng)和易1燃易1爆;

(4)在空氣環(huán)境中含量盡可能少且組分基本恒定的氣體,滿足檢漏靈敏度方面的要求,減少本底干擾檢測(cè)的準(zhǔn)確性。









氦質(zhì)譜檢漏儀測(cè)量數(shù)據(jù)處理

漏率的溫度修正

標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率易受溫度變化影響,溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響一般為3%/℃ ,所以如果實(shí)際環(huán)境溫度和標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中溫度不一致,需要將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中漏率和標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值修正至同一環(huán)境溫度下來(lái)計(jì)算,并在測(cè)試結(jié)果中加以說(shuō)明,修正方法如下:

方法一: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中的漏率修正至實(shí)際環(huán)境溫度下,用標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中的漏率加上或減去溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計(jì)算值;

方法二: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值修正至標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中環(huán)境溫度下,用標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值加上或減去溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計(jì)算值。

科儀創(chuàng)新?lián)碛邢冗M(jìn)的技術(shù),我們都以質(zhì)量為本,信譽(yù)高,我們竭誠(chéng)歡迎廣大的顧客來(lái)公司洽談業(yè)務(wù)。如果您對(duì)氦檢漏感興趣,歡迎點(diǎn)擊左右兩側(cè)的在線客服,或撥打咨詢電話。





氦質(zhì)譜檢漏儀光無(wú)源器件檢漏

光無(wú)源器件是不含光能源的光能器件的總稱。光無(wú)源器件在光路中都要消耗能量,插入損耗是其主要性能指標(biāo)。光無(wú)源器件有光纖連接器、光開(kāi)關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。它們?cè)诠饴分蟹謩e實(shí)現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號(hào)調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無(wú)源器件中的檢漏應(yīng)用。氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇氦質(zhì)譜檢漏儀廠家的氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)示漏氣體的要求及選擇一般應(yīng)從以下幾方面考慮:(1)無(wú)害,不能對(duì)人體或環(huán)境造成傷害。

光無(wú)源器件是不含光能源的光功能器件的總稱。光無(wú)源器件在光路中都要消耗能量,插入損耗是其主要性能指標(biāo)。光無(wú)源器件有光纖連接器、光開(kāi)關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。它們?cè)诠饴分蟹謩e實(shí)現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號(hào)調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無(wú)源器件中的檢漏應(yīng)用。在示值誤差測(cè)量中,每一標(biāo)準(zhǔn)漏孔用氦質(zhì)譜檢漏儀重復(fù)測(cè)量三次,可用公式(2)計(jì)算氦質(zhì)譜檢漏儀在該漏率下的重復(fù)性。

無(wú)源器件檢漏原因:光無(wú)源器件是光纖通信設(shè)備的重要組成部分,也是其它光纖應(yīng)用領(lǐng)域不可缺少的元器件。具有高回波損耗、低插入損耗、高可靠性等特點(diǎn)。光無(wú)源器件對(duì)密封性的要求極高,如果存在泄漏會(huì)影響其使用性能和精度,光通信行業(yè)的漏率標(biāo)準(zhǔn)是小于 5×10-8  mbar.l/s,因此需要進(jìn)行泄漏檢測(cè)。氦質(zhì)譜檢漏法利用氦氣作為示蹤氣體可準(zhǔn)確定位,定量漏點(diǎn),替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏,目前已廣泛應(yīng)用于光無(wú)源器件的檢漏。氫氣有些性能(如質(zhì)量小、易通過(guò)漏孔)比氦還好,然而由于氫一方面有易1爆危險(xiǎn),另一方面在油擴(kuò)散泵中,由于油受熱裂解會(huì)產(chǎn)生大量的碳和氫,使氫本底極高且波動(dòng)大,以致靈敏度大大降低,所以很少采用。




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