真空鍍膜主要利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材du(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氣離子化,造成靶與氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。

對于真空鍍膜加工單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因

主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。?

另外鏡片被鏡圈（）邊緣部遮擋、鏡圈（）臟在蒸鍍時污染鏡片等等也會造成膜色差異問題。?

改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。

改善對策：?

㈠?條件許可，用行星夾具；?

㈡?選用傘片平坦（R大）的機臺；?

㈢?根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。?

㈣?如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。?㈤?改善鏡圈（），防止遮擋。?

㈥?注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對邊緣鏡片的部分遮擋?㈦?清潔鏡圈（）?㈧?改善膜料蒸發(fā)狀況。

真空鍍膜廠家pvd真空鍍膜價格

CVD真空鍍膜廠家的TAC膜層特點及應(yīng)用：本公司為客戶提供質(zhì)高價優(yōu)的鍍膜服務(wù)，鍍制的主要膜層有TAC（金剛石膜），這種膜層有以下性能：

TAC膜層的特點：

1.    TAC(類金剛石)膜層有很高的硬度（HV6000）,優(yōu)良的耐磨性能，摩擦系數(shù)極低（低至0.08），膜層厚度1-2um

2.    具有優(yōu)異的耐蝕性，能耐各種酸、堿等腐蝕。

3.    對金屬、塑料、橡膠、陶瓷等均有良好的抗粘結(jié)和防咬合性能

4.    表面粗糙度低（可達鏡面級）

5.    與基體結(jié)合力很強，可以在各種鋼鐵、鈦合金、鋁合金、硬質(zhì)合金等材料上沉積

  電鍍加工廠告訴你電鍍是什么？，希望對大家有所幫助。

  電鍍：1：利用電解工藝，將金屬或合金沉積在鍍件表面，形成金屬鍍層的表面處理技術(shù)。 所屬學科：電力（一級學科）；配電與用電（二級學科） 定義2：利用電解在制件表面形成均勻、致密、結(jié)合良好的金屬或合金沉積層的過程。 所屬學科：機械工程（一級學科）；表面工程（二級學科）；電鍍與化學鍍（三級學科）